文献
J-GLOBAL ID:202202260683343184   整理番号:22A0975415

光触媒酸化のためのヒドロキシルラジカルの生成における触媒構造とガス表面反応の役割【JST・京大機械翻訳】

Roles of Catalyst Structure and Gas Surface Reaction in the Generation of Hydroxyl Radicals for Photocatalytic Oxidation
著者 (10件):
資料名:
巻: 12  号:ページ: 2770-2780  発行年: 2022年 
JST資料番号: W5035A  ISSN: 2155-5435  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
光触媒はヒドロキシルラジカルの強力な駆動力(HO・)による有機分解の有望な精製技術の1つである。残念なことに,従来の光触媒における溶存酸素からのHOは,H_2O_2による3電子還元プロセスであり,光励起電子の低い利用効率に悩まされる。直接HO・・生成における表面プロセスの変化は,迅速な表面レドックス反応を誘導し,HO生産のための伝導バンド電子(CB-e-)の利用を改善する。本研究では,欠陥加工SスキームWO_3/g-C_3N_4ナノ複合材料を用いて光触媒工学をオゾン化して結合して,触媒構造と表面反応の相対的寄与を,改善されたHO・-生成と量子効率に分析した。欠陥構造とS-スキームヘテロ接合による触媒工学の戦略は,CB-e-生成と濃縮を改善するが,HO-オゾンによる触媒工学の相乗効果は,ベンチマークg-C_3N_4ベース光触媒および触媒オゾン処理と比較して,速度定数の44倍増加をもたらした。本研究は,ミクロ汚染物質除去のための触媒設計および表面反応の観点から,光触媒における速度論的ブーストに対する機構的原理を進歩させ,先進酸化プロセスにおける光触媒修飾および反応経路への洞察を提供する。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
光化学反応  ,  光化学一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る