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J-GLOBAL ID:202202261156785220   整理番号:22A0324604

従来型およびパルスマグネトロンスパッタリング法により堆積した薄いTiO_2膜のプラズマパラメータと構造の相関【JST・京大機械翻訳】

Correlation between plasma parameters and structure of thin TiO2 films deposited by conventional and pulsed magnetron sputtering methods
著者 (6件):
資料名:
巻: 578  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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研究の目的は,2つのマグネトロンスパッタリング法(従来の反応性マグネトロンスパッタリング(RMS)とガスインパルス条件(GIMS)下で実現したマグネトロンスパッタ)によって励起されたプラズマを,発光分光法とLangmuirプロービングを用いて診断することであった。O_2雰囲気中でのTiターゲットのマグネトロンスパッタリングによるTiO_2被覆の堆積中のプラズマを研究した。得られた堆積物を赤外分光法(FTIR)とX線回折(GIXRD)を用いて調べた。調査から2つの主要な結論を得た。1つは反応性スパッタリング中のTiO_2生成の機構に関するものである。平坦なTi原子に対応する発光線の不在は,それらの酸化が気相反応なしにTiターゲットの表面で起こることを証明した。第二の結論は堆積熱力学に関するものである。GIMSプラズマの診断はRMSのものより大きなプラズマ密度と電子温度を明らかにしたが,TiO_2のより高温多形を生成する後者の技術であった。パルス法は,堆積のRMSモードへの変換まで広い範囲での堆積の熱力学的条件を制御する方法を提供する。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
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分類 (3件):
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酸化物薄膜  ,  その他の無機化合物の薄膜  ,  光物性一般 
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