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J-GLOBAL ID:202202262295640541   整理番号:22A0830901

オキシアセチレントーチを用いた多層構造とアブレーション挙動の関係に関する調査【JST・京大機械翻訳】

Investigation on the relationship between multilayer architecture and ablation behavior using an oxyacetylene torch
著者 (4件):
資料名:
巻: 198  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0135B  ISSN: 0010-938X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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ZrC-SiC系に基づくいくつかの多層構造をプラズマ溶射によりSiC被覆炭素/炭素複合材料上に作製し,オキシアセチレントーチを用いて試験した。多層構造とアブレーション挙動との間の密接な相関を参照して,これらの多層被覆において,スケール進展の顕著な分散を見出した。ZrC-10,30,10および70vol%SiCの連続したサブ層からなる多層被覆は,-0.467mg/sの質量アブレーション速度と-0.411μm/sの線形アブレーション速度を有する3回の繰り返しアブレーションサイクルを生き残った。詳細な相解析と形態研究は,その好ましいアブレーション性能を,多機能スケールと中程度の熱応力の形成に起因させた。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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炭素とその化合物 
タイトルに関連する用語 (4件):
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