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J-GLOBAL ID：202202262446623890   整理番号：22A1210672

Au薄膜の原子拡散接合援用トランスファプリントにおける大気曝露時間の影響

Effect of atmospheric exposure time on atomic diffusion bonding assisted transfer-printing of Au thin films

著者 (5件)： KONG W. (東京都大) ,  春日祐人 (東京都大) ,  増田拓己 (東京都大) ,  SU X. (東京都大) ,  金子新 (東京都大)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2022  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.A85  発行年： 2022年03月02日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,原子拡散接合を援用したトランスファプリントで,Au成膜後の大気暴露時間が転写率に及ぼす影響を調査している.Au成膜後のスタンプと基板を湿度15,30,50%のボックスに一定時間保管した後に,基板とスタンプを接触させてトランスファプリントを行った.湿度50%で大気暴露すると,わずか1日でAu薄膜はまったく転写されないが,湿度15%では7日以上暴露しても80%以上の高い転写率が得られた.(著者抄録)

シソーラス用語： 金属薄膜 ,  拡散 ,  拡散接合 ,  時間 ,  構成 ,  転写 ,  印字 ,  *転写印刷
準シソーラス用語： スタンプ ,  金薄膜 ,  *原子拡散 ,  成膜 ,  *曝露時間

分類 (4件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属の表面構造  (BK15020P) ,  半導体薄膜  (BK14040E) ,  金属の機械的性質  (BL01022T)

引用文献 (4件)：

• A. Kaneko et al, International Journal of Automation Technology, 9, 4, (2015), 411-417.
• A. Kaneko et al, International Journal of Automation Technology, 13, 6, (2019), 810-816.
• T. Matsumae et al, Microelectronic Engineering, 195, (2018), 68-73.
• 東野 ほか,エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集 22a(0), (2008), 239-241

タイトルに関連する用語 (6件)： Au ,  薄膜 ,  原子拡散 ,  援用 ,  大気 ,  曝露時間