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J-GLOBAL ID：202202262676026672   整理番号：22A1081375

硬質有機前駆体を用いたセリウム(III)ハイブリッド薄膜の原子/分子層堆積【JST・京大機械翻訳】

Atomic/molecular layer deposition of cerium(iii) hybrid thin films using rigid organic precursors

著者 (8件)： Kaur Parmish (Inorganic Materials Chemistry, Ruhr University Bochum, Universitaetsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany. [e-mail]) ,  Muriqi Arbresha ,  Wree Jan-Lucas ,  Ghiyasi Ramin ,  Safdar Muhammad ,  Nolan Michael ,  Karppinen Maarit ,  Devi Anjana
資料名： Dalton Transactions  (Dalton Transactions)
巻： 51  号： 14  ページ： 5603-5611  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0270A  ISSN： 1477-9226  CODEN： DTARAF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： セリウム系金属-有機ハイブリッド膜の作製のための原子/分子層堆積(ALD/MLD)プロセスを初めて示した。高度に反応性のセリウム(III)グアニジナート前駆体[Ce(dpdmg)_3]を,それぞれのハイブリッド膜の成長のために,剛直な骨格,テレフタル酸(TPA)およびヒドロキノン(HQ)から成る有機前駆体と組み合わせて使用した。200°Cの堆積温度で,Ce-TPAのサイクル当たり5.4ÅとCe-HQのサイクル当たり4.8Åの高い膜の成長速度を得た。密度汎関数理論(DFT)研究は,セリウム前駆体と有機共反応物の間の好ましい相互作用を確認し,Ceが膜中でその+3酸化状態を維持すると予測した。また,これをX線光電子分光法(XPS)によって実験的に確認した。さらに,膜は高いUV吸収である。したがって,これらの膜は,有望なレドックス活性材料および/またはUV吸収材料としての将来の応用を見出すことができる。Copyright 2022 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 相互作用 ,  *薄膜 ,  *セリウム ,  反応性 ,  酸化還元反応 ,  材料 ,  *前駆体 ,  硬質 ,  密度汎関数法 ,  X線光電子分光法 ,  成長速度
準シソーラス用語： 紫外吸収 ,  酸化状態 ,  反応物 ,  ハイブリッド膜 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 硬質 ,  前駆体 ,  セリウム ,  薄膜 ,  原子 ,  分子 ,  堆積