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J-GLOBAL ID:202202262910243448   整理番号:22A0346287

電解銅箔の性能に対する塩化物イオン質量濃度と電場強度の影響【JST・京大機械翻訳】

著者 (9件):
資料名:
巻: 43  号:ページ: 1-6,12  発行年: 2022年 
JST資料番号: C3217A  ISSN: 1672-6871  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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電解銅箔の製造における表面モルホロジーと機械的性質の差の問題を目的として,8μmの厚さの電解銅箔を,添加剤としてゼラチンを用いて,直流電着Cu+法によって調製した。塩酸中のCl-と有機物(ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド)中のCl-が電解銅箔の表面形態と力学特性に与える影響を分析した。ANSYSMaxwellソフトウェアで電場強度をシミュレーションし、銅箔のエッジめっきの粗い原因を解釈した。研究の結果、有機物中のCl-は塩酸中のCl-より電解銅箔の表面形態と機械的性質を向上でき、陰極板のエッジ部分の電界強度は極板の中央位置より高いため、銅箔のエッジめっき層は粗いことが分かった。有機物中のCl-の質量濃度が2mg/Lの時、電解銅箔の輝度は最適で、均一で緻密で、粗さRzは3.6μmで、結晶粒径は小さく、31nmで、引張強さは380.9MPaに達した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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電気めっき  ,  機械的性質 
タイトルに関連する用語 (5件):
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