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J-GLOBAL ID：202202263738096835   整理番号：22A1065720

水素引抜による光誘起ヒドロシリル化 シランの構造効果のNMRおよび計算研究【JST・京大機械翻訳】

Photoinduced hydrosilylation through hydrogen abstraction: an NMR and computational study of the structural effect of silane

著者 (5件)： Quach Thi-Hai-Yen (Laboratoire de Photochimie et d’Ingenierie Macromoleculaires, Institut Jean Baptiste Donnet, 3b rue Alfred Werner, 68093 Mulhouse Cedex, France. [e-mail]) ,  Allonas Xavier ,  Croutxe-Barghorn Celine ,  Le Nouen Didier ,  Sangermano Marco
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 12  号： 14  ページ： 8458-8465  発行年： 2022年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 不飽和結合へのSi-H結合の付加を記述するヒドロシリル化反応を触媒,通常高活性白金触媒の存在下で行った。本研究は,種々のヒドロシラン上のオレフィンの付加反応を促進するベンゾフェノンの使用による光誘起ヒドロシリル化の研究に焦点を当てた。ヒドロシリル化時の二重結合へのシランの反応性は,それらの構造に依存するようである。Si-HとC=C官能基の消費は照射時間と共に増加し,ジフェニルシランの場合,最大約51%に達した。ヒドロシリル化生成物を1H NMR,HSQC,DEPT,COSYおよび13C NMRで決定した。主生成物は二重結合へのシリルラジカルの単一付加物に対応する。2つまたは3つのフェニル基(トリフェニルシラン,ジフェノシラン)によるSi-H結合の置換は,その低い立体障害のため,トリフェニルシランよりも効率的であったけれども,反応の収率を高めた。ベンゾフェノンの三重項状態による水素引抜後に生成したケチルラジカルは,ヒドロシリル化反応の全収率を低下させる反応であるベンゾピナコールを形成する。これらの実験は,関与する反応のGibbs自由エネルギーのDFT計算と一致した。これは光誘起ヒドロシリル化プロセスに新しい光を投げ,光開始剤/シラン/ビニルシラン系のより活性な組み合わせへの道を開く。Copyright 2022 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *NMR【磁気共鳴】 ,  *水素 ,  *シラン ,  白金触媒 ,  アルケン ,  *ヒドロシリル化 ,  二重結合 ,  密度汎関数法 ,  立体障害 ,  光開始剤 ,  芳香族ケトン
準シソーラス用語： 官能基 ,  *光誘起 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 付加反応,脱離反応  (CF02030M) ,  第6族,第7族元素の錯体  (CE01080F) ,  白金族元素の錯体  (CE01100E) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

物質索引 (3件)： ベンゾフェノン ,  ジフェニルシラン ,  トリフェニルシラン

タイトルに関連する用語 (9件)： 水素 ,  引抜 ,  光誘起 ,  ヒドロシリル化 ,  シラン ,  構造効果 ,  NMR ,  計算 ,  研究