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J-GLOBAL ID:202202263980549647   整理番号:22A0464665

表面基の高い露出を有する両親媒性シリカの合成と水溶液からの有機染料の効率的除去におけるその利用【JST・京大機械翻訳】

Synthesis of Amphiphilic Silica with High Exposure of Surface Groups and Its Utilization in Efficient Removal of Organic Dyes from Aqueous Solution
著者 (11件):
資料名:
巻: 32  号:ページ: e2106828  発行年: 2022年 
JST資料番号: W1336A  ISSN: 1616-301X  CODEN: AFMDC6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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一段階逆相マイクロエマルション法を用いて,その表面に2種類の極性および弱極性有機基を同時に導入して,両親媒性シリカを合成した。得られた材料はサイズ≒100nmのナノスフェアとして存在する。シリコン種の高い割合(≒80%)が曝露され,表面Si-OHの量は有機基の導入で50%以上増加した。極性基(3-アミノプロピルおよびヒドロキシル)および弱極性基(n-プロピル)を含む,表面上に共存したグループが,両親媒性を示す材料を可能にした。この両親媒性物質は,水溶液からの種々の有機染料の除去に優れた特性を示し,コンゴーレッド,アシッドブルー25,リアクティブブルー19,およびリアクティブブラック5の最大吸着能力は,それぞれ2453.1,1157.7,964.6,および916.9mg・g-1に達することができる。良好な再利用性も現在の両親媒性物質に対して実現され,少なくとも3回再利用できる。報告した研究は,表面親水性と親油性が,ある有機基の簡単な導入によって,同時に改善でき,次に,汚染水から染料の効率的な除去を実現することができることを証明した。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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