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J-GLOBAL ID：202202264055814289   整理番号：22A1124864

デジタルマイクロミラーデバイスに基づくマスクレスリソグラフィー技術の進展【JST・京大機械翻訳】

Research progress of maskless lithography based on digital micromirror devices

著者 (6件)： Zhang Siqi (電子科技大学光電科学与工程学院,四川成都011699) ,  Zhou Sihan (電子科技大学光電科学与工程学院,四川成都011699) ,  Yang Zhuojun (電子科技大学光電科学与工程学院,四川成都011699) ,  Xu Zhi (中国科学院物理研究所松山湖材料実験室,广東東莞523429) ,  Lan Zhangyong (電子科技大学光電科学与工程学院,四川成都011699) ,  Li Chun (電子科技大学光電科学与工程学院,四川成都011699)
資料名： Guangxue Jingmi Gongcheng  (Guangxue Jingmi Gongcheng)
巻： 30  号： 1  ページ： 12-30  発行年： 2022年 
JST資料番号： C2090A  ISSN： 1004-924X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 空間光変調器に基づくマスクレスリソグラフィーはリソグラフィ技術の重要な発展方向の一つである。近年、デジタルマイクロミラーデバイスチップの集積度と性能の向上に伴い、デジタルマイクロミラーデバイスのマスクレスリソグラフィーが主要なデジタルリソグラフィー技術になった。グレースケール変調可能な光反射式「デジタルマスク」は従来のフォトリソグラフィーで使用されるプレホーム物理光マスク版を代替し、この技術はリソグラフィリソグラフィーのプロセスを大幅に簡略化し、リソグラフィーの柔軟性を高め、平面マイクロナノデバイス、超材料、マイクロフルイディクスデバイス、組織生物研究などの分野で幅広く応用されている。デジタルマスクレスリソグラフィーの原理から,典型的な光照明システムの構造とマイクロ投影システム構造を簡単に紹介し,平面リソグラフィーの空間分解能増強技術,グレースケールリソグラフィー技術及び三次元マイクロステレオリソグラフィー技術の進展を紹介した。最後に、いくつかの典型的なデジタル無マスクリソグラフィーの応用を列挙し、その発展方向について展望した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 簡素化 ,  グレースケール ,  照明設備 ,  柔軟性 ,  ディジタル方式 ,  光反射 ,  プリフォーム ,  *リソグラフィー ,  三次元 ,  システム構造 ,  フォトリソグラフィー ,  空間光変調素子 ,  マイクロフルイディクス
準シソーラス用語： *マイクロミラー ,  *マスクレスリソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： デジタルマイクロミラーデバイス ,  マスクレスリソグラフィー ,  進展