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J-GLOBAL ID:202202264398970426   整理番号:22A1159603

Si-Geホイスカの価電子帯における歪誘起分裂【JST・京大機械翻訳】

Strain-induced splitting in valence band of Si-Ge whiskers
著者 (5件):
資料名:
巻: 12  号:ページ: 913-917  発行年: 2022年 
JST資料番号: W6363A  ISSN: 2190-5517  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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1×1018cm-3の濃度のホウ素でドープしたp型導電性固溶体シリコン-ゲルマニウムホイスカに対する抵抗の温度依存性を,4.2~300Kの温度範囲および-3×10-3relまで一軸圧縮歪下で調べた。価電子帯スペクトルにおけるスピン-軌道分裂に起因する歪の影響を調べた。結果として,k-p法に基づいて,光と重い正孔の両方に対するスピン-軌道分裂エネルギーを発見した。固溶体Si_0.2Ge_0.8ホイスカの歪誘起効果を低温で調べた。ヘリウム温度における基礎巨大ピエゾ抵抗効果は,金属-絶縁体転移の近傍にドーピング濃度を有するシリコン-ゲルマニウムホイスカに基づいて,超感受性歪ゲージを創製する機会を与える。5×10-4~1.3×10-3relのヘリウム温度と変形範囲で動作する機械的センサを,濃度1×1018cm-3にドープした高感度元素Si_0.2Ge_0.8ホイスカで設計した。Copyright King Abdulaziz City for Science and Technology 2021 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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半導体結晶の電気伝導  ,  半導体と絶縁体の電気伝導一般  ,  半導体のルミネセンス 
タイトルに関連する用語 (5件):
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