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J-GLOBAL ID:202202265230751291   整理番号:22A0430867

高分子基板上のAg膜の界面挙動に及ぼす中間層の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of interlayers on the interfacial behavior of Ag films on polymer substrates
著者 (9件):
資料名:
巻: 742  ページ: Null  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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フレキシブルエレクトロニクスとセンサのより広い使用により,基板化学と比較的脆い中間層の使用が導電性薄膜の電気機械と界面挙動にどのように影響するかをより良く理解する必要がある。ここでは,チタン(Ti)接着層有りと無しのポリイミド(PI)とポリエチレンナフタレート(PEN)上に蒸着された銀(Ag)膜を,亀裂因子による電気機械的応答を研究するために,単軸歪中のin-situ電気抵抗測定で研究した。さらに,種々の材料系の付着エネルギーを定量的に測定するために,引張誘起剥離法によりモリブデン(Mo)応力被覆層を利用した。C=O基の機械的挙動と数に関して,基板化学が,厚さ亀裂がどのように伸びるか,そしてAgとTiが高分子基板に化学結合するのに,重要な役割を果たすことを実証した。一般的に,Ti中間層は電気的挙動を劣化させるが,AgのPI基板への界面接着を改善できる。PEN基板では,TiはAg単独に比べて接着を低下させることが分かった。材料相互作用に関するこの新しい知識は,将来のフレキシブル電子薄膜システムを改善するために使用できる。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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金属薄膜  ,  酸化物薄膜 
タイトルに関連する用語 (5件):
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