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J-GLOBAL ID：202202265316771008   整理番号：22A1163133

気体調和表面相互作用/電場結合に基づく軸対称プラズマプルームの数値シミュレーション【JST・京大機械翻訳】

Numerical Simulation of Axisymmetric Plasma Plume Based on Gas-Surface Interaction/Electric Field Coupling

著者 (5件)： Li Jie (College of Aerospace Science and Engineering, National University of Defense Technology, Changsha, China) ,  Yang Fuxiang (College of Aerospace Science and Engineering, National University of Defense Technology, Changsha, China) ,  Fan Zhenglei (College of Aerospace Science and Engineering, National University of Defense Technology, Changsha, China) ,  Du Wendi (College of Aerospace Science and Engineering, National University of Defense Technology, Changsha, China) ,  Xu Ao (China Academy of Engineering Physics, Jiangyou, China)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 50  号： 4  ページ： 1097-1112  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イオンと中性粒子の輸送のシミュレーションは,ジェット流プラズマ装置の流れ場と作動特性の研究にとって重要である。このようなデバイス内の小空間におけるプラズマプルームの時空間発展は複雑である。この状況における粒子輸送の数値シミュレーションを実現するためには,粒子,化学反応,ガス潤滑表面相互作用および電場間の衝突のような多様な複雑な効果を考慮する必要がある。本研究では,5種類の粒子(H_2,H,金属原子,H_2+,H+)を二重円筒計算領域に注入した。直接シミュレーションモンテカルロ(DSMC)法を用いて,異なる適応係数を有するMaxwellとCercignani Lagranpis Lagrans Lordモデルにおける粒子の時空間発展をシミュレーションした。粒子蓄積現象を説明し,適応係数の影響を明らかにした。壁化学反応を次に導入して,ガス潤滑表面カップリングをより現実的にした。これらの反応は,H+,H_2,およびHの粒子数密度に大きな影響を及ぼし,一方,流れ場構造は,各成分の粒子速度分布における小さな差のため,ほとんど影響を持たなかった。最後に,DSMC/粒子インセル法を用いて,簡単な軸対称例をシミュレートし,流れ場におけるH_2,H+,およびHの時空間発展に及ぼす,気体潤滑表面相互作用,壁化学反応,および電場の影響を実証した。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： モンテカルロ法 ,  イオン ,  *相互作用 ,  適応係数 ,  *電場 ,  化学反応 ,  プラズマ装置 ,  *プルーム ,  中性粒子 ,  *軸対称性 ,  粒子速度 ,  流れ場
準シソーラス用語： *数値シミュレーション ,  直接シミュレーションモンテカルロ ,  粒子輸送 ,  粒子数 ,  *プラズマプルーム , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (7件)： 気体 ,  調和 ,  相互作用 ,  電場 ,  軸対称 ,  プラズマプルーム ,  数値シミュレーション