文献

J-GLOBAL ID：202202265654605709   整理番号：22A0926627

メタンの乾式改質のためのNi/Al_2O_3上のZrO_2被覆堆積による金属-酸化物界面のエンジニアリング【JST・京大機械翻訳】

Engineering metal-oxide interface by depositing ZrO₂ overcoating on Ni/Al₂O₃ for dry reforming of methane

著者 (4件)： Jin Baitang (Linda and Bipin Doshi Department of Chemical and Biochemical Engineering, Missouri University of Science and Technology, Rolla, MO 65409, United States) ,  Li Shiguang (Gas Technology Institute, 1700 South Mount Prospect Road, Des Plaines, IL 60018, United States) ,  Liu Yuzi (Center for Nanoscale Materials, Argonne National Laboratory, 9700 S. Cass Avenue, Argonne, IL 60439, United States) ,  Liang Xinhua (Linda and Bipin Doshi Department of Chemical and Biochemical Engineering, Missouri University of Science and Technology, Rolla, MO 65409, United States)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 436  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： メタン(DRM)の乾式改質のために,原子層堆積(ALD)による被覆として,酸化ジルコニウム(ZrO_2)をNi/Al_2O_3触媒上に堆積した。H_2還元中の高温加熱はALD調製ZrO_2薄膜を正方晶相に転換し,Niサイト上にカプセル封じ層を亀裂し,有益なNi-ZrO_x界面を構築した。高温H_2還元中のZrO_2表面の部分的還元により,Niの支援により,ZrO_2上の界面表面酸素空孔が誘起された。DRMの間,界面酸素空孔はCO_2を解離して活性Oを放出することによりCO_2活性化を促進し,それによって炭素形成を制限した。700°Cと800°CでのDRMでは,5サイクルのZrO_2ALD被覆によるNi/Al_2O_3は,活性と安定性の両方を著しく強化した。600°Cでの100hのDRM試験に対して,Ni/Al_2O_3の59%の相対活性損失と比較して,10サイクルのZrO_2ALD被覆でNi/Al_2O_3触媒に対して失活は観察されなかった。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *界面 ,  還元 ,  亀裂 ,  *金属 ,  高温 ,  薄膜 ,  炭素 ,  *ニッケル ,  *被覆 ,  触媒 ,  酸化ジルコニウム ,  *改質 ,  正方晶系 ,  触媒調製 ,  アルカン
準シソーラス用語： 酸素空格子点 ,  *乾式改質 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ZrO_2被覆 ,  原子層蒸着(ALD) ,  メタン(DRM)の乾式改質 ,  金属-酸化物界面 ,  酸素空孔

分類 (1件)： 触媒操作  (XE01050T)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (7件)： メタン ,  乾式改質 ,  Ni ,  堆積 ,  酸化物 ,  界面 ,  エンジニアリング