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J-GLOBAL ID：202202265687262214   整理番号：22A1050981

二次元カルコゲナイドvan der Waals材料に対する正確なイオン緩和アルゴリズムに向けて-第一原理研究【JST・京大機械翻訳】

Towards accurate ionic relaxation algorithms for two-dimensional chalcogenide van der Waals materials - A first-principles study

著者 (2件)： el-Attar Mahmoud (Energy Materials Laboratory, School of Sciences and Engineering, The American University in Cairo, New Cairo, 11835, Egypt) ,  Allam Nageh K. (Energy Materials Laboratory, School of Sciences and Engineering, The American University in Cairo, New Cairo, 11835, Egypt)
資料名： Physica E: Low-Dimensional Systems and Nanostructures  (Physica E: Low-Dimensional Systems and Nanostructures)
巻： 140  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： W1066A  ISSN： 1386-9477  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近,van der Waals(vdW)材料として知られる2次元(2D)層状材料は,それらのユニークな電気化学的および物理的特性のために,注目すべき注目を集めている。遷移金属ジカルコゲン化物(TMD)は2D材料であり,ハニカム構造(六方晶格子)中に3つの多形(1T,2Hおよび3R)に通常存在する。構造緩和の観点から,1T相はz方向に沿ってより少ない構造対称性を有し,2H対応物より挑戦的である。ここでは,1T多形のシミュレーションにおけるvdW力および関連する課題を可能にする重要性を検討した。2つの最も広く使用されたイオン緩和法(共役勾配とRMM-DIIS)を6つのTMD(TaS_2,TaSe_2,MoSe_2,WSe_2)に用い,結果を文献中で報告された結果と比較した。さらに,新しく設計した先進的変換アルゴリズム(TPSCA)を,シェルスクリプト,DFT電子緩和,およびPython符号化を組み込むことによって開発した。開発したアルゴリズムを1T-TaS_2に対して試験し,得られた結果を確認し,それらのパラメータの異なる組合せに対するエネルギーの依存性に対するより良い洞察を得た。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *アルゴリズム ,  *イオン ,  対称性 ,  構造 ,  ハニカム構造 ,  共役 ,  緩和法 ,  *カルコゲン化物 ,  *緩和現象 ,  電気化学 ,  六方晶系 ,  *二次元 ,  構造緩和 ,  第一原理
準シソーラス用語： 電子緩和 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： Transition metal dichalcogenides ,  Ionic relaxation ,  Interlayer spacing ,  Van der waals forces ,  Polytypes ,  Convergence ,  DFT

分類 (2件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  二次電池  (YB04030K)

タイトルに関連する用語 (7件)： カルコゲナイド ,  VAN ,  イオン ,  緩和 ,  アルゴリズム ,  第一原理 ,  研究