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J-GLOBAL ID：202202265715765877   整理番号：22A0262414

粉砕によるSiO₂のSi周辺構造変化

Variation of local structure of Si in SiO₂ with milling.

著者 (3件)： 梶並昭彦 (神戸大) ,  奥村魁 (神戸大) ,  岡友貴 (神戸大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 33rd  ページ： ROMBUNNO.1TB01  発行年： 2020年08月17日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,  石英 ,  石英ガラス ,  *粉砕 ,  *核間距離 ,  XAFS ,  *配位数 ,  構造 ,  電子状態 ,  化学結合 ,  動径分布関数 ,  摩砕 ,  *アモルファス化
準シソーラス用語： Si-O結合 ,  ボールミル粉砕 ,  局所構造

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z) ,  その他の非晶質の構造  (BK04040Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： 粉砕 ,  SiO2 ,  Si ,  周辺 ,  構造変化