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J-GLOBAL ID：202202266873053828   整理番号：22A0493081

弱バックグラウンドパルスによる電気めっきプロセスの制御【JST・京大機械翻訳】

Control of electroplating process by weak background pulses

著者 (2件)： Zarembo Viktor (St. Petersburg State Institute of Technology (Technological University), 26 Moscovsky Prosp., St. Petersburg, 190013, Russia) ,  Zarembo Daria (St. Petersburg State Institute of Technology (Technological University), 26 Moscovsky Prosp., St. Petersburg, 190013, Russia)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 2456  号： 1  ページ： 020064-020064-5  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,工業グレード生産におけるラック-およびバレル-電気めっきプロセスのためのシアン化物ベース銀化に及ぼす,50-2000kHzにおける電磁起源の弱い撹拌パルスの影響を扱う。電気めっき層の形態を走査型電子顕微鏡を用いて調べた。観察された実験結果は,周波数調節によって最適化できる産業グレード処理における銀化の品質に及ぼす低電力引張パルス変調の影響を示している。弱い撹拌パルスの適用は,プロセス速度の増加,カソード効率の増加,それらのより高い密度および減少した多孔性と共に層厚さの減少を含む電気めっきの品質を改善することを示した。実際のガルバニ製造の他の技術的パラメータに影響することなく,正の効果を達成した。観測された効果を電気化学プロセスの共鳴時空間変調の観点から考察した。Copyright 2022 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 共鳴 ,  最適化 ,  走査電子顕微鏡 ,  撹拌 ,  *電気めっき ,  多孔性 ,  シアン化物 ,  パルス変調 ,  引張 ,  電気化学 ,  *パルス ,  カソード
準シソーラス用語： 銀染色 ,  低電力化 ,  空間変調 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

タイトルに関連する用語 (4件)： バックグラウンド ,  パルス ,  電気めっき ,  プロセス