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J-GLOBAL ID：202202266984717660   整理番号：22A0082042

vdW-DF-ahcx:範囲分離van der Waals密度汎関数ハイブリッド【JST・京大機械翻訳】

vdW-DF-ahcx: a range-separated van der Waals density functional hybrid

著者 (4件)： Shukla Vivekanand (Microtechnology and Nanoscience-MC2, Chalmers University of Technology, SE-41296 Gothenburg, Sweden) ,  Jiao Yang (Microtechnology and Nanoscience-MC2, Chalmers University of Technology, SE-41296 Gothenburg, Sweden) ,  Frostenson Carl M (Microtechnology and Nanoscience-MC2, Chalmers University of Technology, SE-41296 Gothenburg, Sweden) ,  Hyldgaard Per (Microtechnology and Nanoscience-MC2, Chalmers University of Technology, SE-41296 Gothenburg, Sweden)
資料名： Journal of Physics. Condensed Matter  (Journal of Physics. Condensed Matter)
巻： 34  号： 2  ページ： 025902 (20pp)  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0914B  ISSN： 0953-8984  CODEN： JCOMEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ハイブリッド密度汎関数は,Fock交換成分による基本的な一般化勾配近似(GGA)交換記述の一部を置き換える。範囲分離ハイブリッド(RSHs)もFock交換成分を効果的にスクリーニングし,金属表面での金属と吸着の特性化のためのドアを開いた。RSHは,例えば,HSE設計(Heyd J et 2003 J.Chem.1188207)で実行されるように,例えばPBE(Perdew J P et 1996 Phys.Rev.Lett.773865)のようなロバストGGAに基づいている。ここでは,van der Waals密度汎関数(vdW-DF)法(Berland K et 2015 Rep.Prog.Phys.78066501)に,vdW-DF-ahcxを打ち上げて,分析-ホール(Henderson T M et al 2008 J.Chem.Phys.128194105)の一貫した交換RSH拡張を定義した。vdW-DF-cxバージョン(Berland KおよびHyldgaard P2014 Phys.Rev.B89035412)におけるGGA型交換を特性化し,短範囲交換成分を分離し,新しいvdW-DFハイブリッドを定義した。性能vdW-DF-ahcxは,バルク(広い分子)特性の記述に対して(分散補正)HSEと良好に比較できることが分かった。また,CO吸着を含む貴金属表面特性の正確な記述を与えることを見出した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 貴金属 ,  表面性状 ,  キャラクタリゼーション ,  *密度汎関数法 ,  ロバスト性
準シソーラス用語： 金属表面 ,  一般化勾配近似 ,  一酸化炭素吸着 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 非晶質金属の電子構造  (BM02042Z) ,  電子放出一般  (BM09010H) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  不純物・欠陥の電子構造  (BM02100I) ,  絶縁体結晶の電子構造  (BM02070Y)

タイトルに関連する用語 (3件)： DF ,  VAN ,  密度汎関数