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J-GLOBAL ID：202202267137080904   整理番号：22A0742160

熱レーザパルスにより励起した機能傾斜半導体媒質の光熱弾性挙動【JST・京大機械翻訳】

Photo-thermoelastic behavior of a functionally graded? Semiconductor medium excited by thermal laser pulses

著者 (7件)： Awwad E (Department of Mathematics, College of Science and Arts, Al-Qurayat, Jouf University, Saudi Arabia) ,  Abouelregal Ahmed E (Department of Mathematics, College of Science and Arts, Al-Qurayat, Jouf University, Saudi Arabia) ,  Abouelregal Ahmed E (Basic Sciences Research Unit, Jouf University, Saudi Arabia) ,  Atta Doaa (Department of Mathematics, College of Science, Qassim University, PO Box 6644, Buraydah 51482, Saudi Arabia) ,  Atta Doaa (Department of Mathematics, Faculty of Science, Mansoura University, Mansoura 35516, Egypt) ,  Sedighi Hamid M (Mechanical Engineering Department, Faculty of Engineering, Shahid Chamran University of Ahvaz, Ahvaz 61357-43337, Iran) ,  Sedighi Hamid M (Drilling Center of Excellence and Research Center, Shahid Chamran University of Ahvaz, Ahvaz, Iran)
資料名： Physica Scripta  (Physica Scripta)
巻： 97  号： 3  ページ： 030008 (15pp)  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0454B  ISSN： 0031-8949  CODEN： PHSTBO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,傾斜機能半導体熱弾性半空間の光熱応答を研究するための解析的手法を示した。エネルギー散逸のない一般化熱弾性熱伝導理論を用いて,半空間材料の特性が縦方向で変化すると仮定した支配方程式を抽出した。光熱遷移モデルの文脈において,熱弾性プラズマ波間の相互作用を記述した。物理場変数に対する支配方程式を物理領域におけるLaplace変換手順により決定した。各場変数の分布と熱弾性プラズマ波の広がりをプロットし,議論した。考慮した媒質の熱弾性挙動に及ぼす熱緩和およびべき乗則(不均一性)指数のような特性パラメータの影響を決定するために,いくつかの説明例を示した。最後に,現在の定式化からいくつかの興味深い状況を導いた。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Laplace変換 ,  相互作用 ,  *熱弾性 ,  熱伝導 ,  *半導体 ,  プラズマ波 ,  方程式 ,  *媒質 ,  空間 ,  *レーザパルス ,  モデル ,  定式化 ,  熱応答
準シソーラス用語： 支配方程式 ,  べき乗則 ,  半空間 ,  一般化熱弾性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 弾性力学一般  (HC02010M)

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザパルス ,  励起 ,  媒質 ,  弾性挙動