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J-GLOBAL ID：202202267297660020   整理番号：22A0430858

空間分解発光分光法による(PO_2)_4(WO_3)_4ターゲットからのりんドープWO_x膜のパルスレーザ蒸着の調整【JST・京大機械翻訳】

Tailoring pulsed laser deposition of phosphorus doped WO_x films from (PO₂)₄(WO₃)₄ target by space-resolved optical emission spectroscopy.

著者 (13件)： More-Chevalier J. (Institute of Physics of the Czech Academy of Sciences, Na Slovance 1999/2, 18221 Prague 8, Czech Republic) ,  Irimiciuc S.A. (Institute of Physics of the Czech Academy of Sciences, Na Slovance 1999/2, 18221 Prague 8, Czech Republic) ,  Irimiciuc S.A. (National Institute for Laser, Plasma and Radiation Physics - NILPRP, 409 Atomistilor Street, Bucharest, Romania) ,  Volfova L. (Institute of Physics of the Czech Academy of Sciences, Na Slovance 1999/2, 18221 Prague 8, Czech Republic) ,  Volfova L. (Faculty of Science, Charles University, Hlavova 2030/8, 12843 Praha 2, Czech Republic) ,  Fekete L. (Institute of Physics of the Czech Academy of Sciences, Na Slovance 1999/2, 18221 Prague 8, Czech Republic) ,  Chertopalov S. (Institute of Physics of the Czech Academy of Sciences, Na Slovance 1999/2, 18221 Prague 8, Czech Republic) ,  Poupon M. (Institute of Physics of the Czech Academy of Sciences, Na Slovance 1999/2, 18221 Prague 8, Czech Republic) ,  Duverger-Nedellec E (ICMCB - UMR5026 87, Avenue du Docteur Schweitzer 33608 PESSAC, cedex (France)) ,  Herve L. (Normandie Univ, ENSICAEN, UNICAEN, CNRS, CRISMAT, 14000 Caen, France) ,  Novotny M. (Institute of Physics of the Czech Academy of Sciences, Na Slovance 1999/2, 18221 Prague 8, Czech Republic) ,  Perez O. (Normandie Univ, ENSICAEN, UNICAEN, CNRS, CRISMAT, 14000 Caen, France) ,  Lancok J. (Institute of Physics of the Czech Academy of Sciences, Na Slovance 1999/2, 18221 Prague 8, Czech Republic)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 742  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リンドープWO_x膜を,m=2のモノリン酸タングステンブロンズ(PO_2_4(WO_3)_2_m)のターゲットから溶融シリカ基板上に堆積させた。O_2圧力および基板温度堆積の種々の条件を,堆積段階中のプラズマ調査と平行して行った。膜特性に影響する膜化学量論には変化が観察されたが,O_2圧力は増加した。光学バンドギャップは,7.5Paから20Paまでの堆積圧力の関数として3.39eVから3.86eVへシフトした。その場発光分光法を全てのO_2雰囲気条件で行った。酸素圧を5Paに増大させると,リン線の欠損を伴うプラズマのスペクトル組成の変化が観察された。各構成種に起因する原子と多重イオン化イオンを含む複雑なプラズマが,堆積の高いO_2圧力で観察された。O_2圧力の増加は,プラズマの強い熱化とWO_3形成のための好ましい環境を生成するプラズマ粒子の強い散乱をもたらした。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン ,  プラズマ ,  *リン ,  リン酸 ,  タングステンブロンズ ,  石英ガラス ,  *ドーピング ,  スペクトル ,  化学量論 ,  熱化 ,  *発光分光法 ,  光学ギャップ ,  *パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： 酸素分圧 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： プラズマ研究 ,  りんドープ酸化タングステン ,  パルスレーザ蒸着 ,  薄膜

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 分解 ,  発光分光法 ,  ターゲット ,  りん ,  ドープ ,  パルスレーザ蒸着