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J-GLOBAL ID：202202269354377039   整理番号：22A1047833

重畳HiPIMS-MFシステムを用いて作製した酸化タングステン被覆の微細構造,機械的及び光学的性質【JST・京大機械翻訳】

Microstructural, mechanical and optical properties of tungsten oxide coatings fabricated using superimposed HiPIMS-MF systems

著者 (10件)： Moirangthem Igamcha (Department of Mechanical Engineering, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei, Taiwan) ,  Moirangthem Igamcha (Department of Materials Engineering, Ming Chi University of Technology, New Taipei, Taiwan) ,  Chen Shih-Hsun (Department of Mechanical Engineering, National Taiwan University of Science and Technology, Taipei, Taiwan) ,  Chen Shih-Hsun (High Entropy Materials Center, National Tsing Hua University, Hsinchu, Taiwan) ,  Lou Bih-Show (Chemistry Division, Center for General Education, Chang Gung University, Taoyuan, Taiwan) ,  Lou Bih-Show (Department of Orthopaedic Surgery, New Taipei Municipal TuCheng Hospital, Chang Gung Memorial Hospital, Taiwan) ,  Lee Jyh-Wei (Department of Materials Engineering, Ming Chi University of Technology, New Taipei, Taiwan) ,  Lee Jyh-Wei (High Entropy Materials Center, National Tsing Hua University, Hsinchu, Taiwan) ,  Lee Jyh-Wei (Center for Plasma and Thin Film Technologies, Ming Chi University of Technology, New Taipei, Taiwan) ,  Lee Jyh-Wei (Department of Mechanical Engineering, Chang Gung University, Taoyuan, Taiwan)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 436  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,低化学量論WO_x薄膜を,高出力インパルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)と重畳HiPIMS-中間周波数(MF)システムを用いて作製した。酸素流量比は,0.4Paで全ての堆積に対して同じ作動圧力を維持しながら33%から83%まで変化した。酸素流量比が33%から83%に増加したとき,WO_xのタングステンに対する酸素の比,WO_xのx値は2.07から2.40に増加した。33%より高い酸素流量比を用いて堆積したWO_x薄膜に対して,ナノ結晶単斜晶W_25O_73相は,重畳HiPIMS-MFまたは純粋なHiPIMSによって生成された。純粋なHiPIMSと比較して,重畳HiPIMS-MF技術は,より高い蒸着速度とより高い硬度を有するWO_x薄膜を作製した。WO_2.28膜は8.6GPaの最高硬度を示した。WO_2.29膜において,3.38eVの最高光学バンドギャップ値を達成した。酸素含有量,O/W比,および薄膜の平均透過率は,O_2流量比の増加に伴い増加した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *光学的性質 ,  *畳込み ,  薄膜 ,  酸素 ,  *タングステン ,  *被覆 ,  *酸化タングステン ,  堆積速度 ,  化学量論 ,  単斜晶系 ,  透過率 ,  光学ギャップ ,  ナノ結晶
準シソーラス用語： 蒸着速度 ,  流量比 ,  酸素流量 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 酸化タングステン ,  高出力インパルスマグネトロンスパッタリング ,  中間周波数 ,  重畳HiPIMS-MF ,  ナノインデンテーション ,  光バンドギャップ

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  ガラス・セラミック被覆一般  (YC02010D) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 重畳 ,  HiPIMS ,  MF ,  作製 ,  酸化タングステン ,  微細構造 ,  光学的性質