文献

J-GLOBAL ID：202202270162329219   整理番号：22A0800992

超高速二光子リソグラフィー用のクリック化学支援有機-無機ハイブリッドフォトレジスト【JST・京大機械翻訳】

Click chemistry assisted organic-inorganic hybrid photoresist for ultra-fast two-photon lithography

著者 (9件)： Cao Chun (Research Center for Intelligent Chips and Devices, Zhejiang Lab, Hangzhou 311121, PR China) ,  Liu Jianting (Beijing National Laboratory for Molecular Sciences (BNLMS), Key Laboratory of Green Printing, Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, PR China) ,  Xia Xianmeng (Research Center for Intelligent Chips and Devices, Zhejiang Lab, Hangzhou 311121, PR China) ,  Shen Xiaoming (Research Center for Intelligent Chips and Devices, Zhejiang Lab, Hangzhou 311121, PR China) ,  Qiu Yiwei (Research Center for Intelligent Chips and Devices, Zhejiang Lab, Hangzhou 311121, PR China) ,  Kuang Cuifang (Research Center for Intelligent Chips and Devices, Zhejiang Lab, Hangzhou 311121, PR China) ,  Kuang Cuifang (State Key Laboratory of Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027, PR China) ,  Liu Xu (Research Center for Intelligent Chips and Devices, Zhejiang Lab, Hangzhou 311121, PR China) ,  Liu Xu (State Key Laboratory of Modern Optical Instrumentation, College of Optical Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027, PR China)
資料名： Additive Manufacturing  (Additive Manufacturing)
巻： 51  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： W3016A  ISSN： 2214-8604  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 何十年もの間,二光子リソグラフィー(TPL)の開発にもかかわらず,超高速TPLのための適切なフォトレジストの欠如のため,高スループットを有する2Dマイクロアーキテクチャの作製は依然として困難である。本研究では,硬化性ジルコニアナノクラスタ(Zr-NCs)とクリック化学を一緒に組み込み,有機-無機ハイブリッドフォトレジストを形成した。興味深いことに,Zr-NCは,吸着容量を改善し,使用した開始剤の絶対蛍光量子収率を減少することにより,フォトレジストをより高い感光性に付与した。さらに,酸素阻害は効果的なチオール-エンクリック反応によって除去された。その結果,達成されたフォトレジストの最大リソグラフィー速度は2.0m/sまで著しく向上し,これは報告されたTPLフォトレジストよりも数十倍高かった。一方,フォトレジストは,また,固体フォトレジスト膜におけるフリーラジカルの高感度および抑制拡散に起因する,識別最小特徴サイズ(59nm)を示した。最後に,高品質マイクロQRコードを1.0m s-1のフォトレジストにより調製することに成功したが,これは関連ウェブサイトを訪れると認識できた。したがって,本研究は超高速2D TPLの道を開く代替戦略を提供するかもしれない。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ラジカル ,  酸素 ,  *フォトレジスト ,  重合開始剤 ,  *化学合成 ,  二次元 ,  *リソグラフィー ,  高感度
準シソーラス用語： 光感受性 ,  吸着容量 ,  二次元コード ,  超高速 ,  ハイスループット ,  高品質 ,  *クリック化学 ,  二光子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 二光子リソグラフィー ,  フォトレジスト ,  有機-無機ハイブリッド ,  クリック化学 ,  超高速

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 二光子 ,  リソグラフィー ,  クリック化学 ,  支援 ,  有機-無機ハイブリッド ,  フォトレジスト