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J-GLOBAL ID：202202270219039086   整理番号：22A0775285

反射防止材料としての多孔質シリコン構造の最適化【JST・京大機械翻訳】

Optimization of porous silicon structure as antireflective material

著者 (8件)： Ge Daohan (Institute of Intelligent Flexible Mechatronics, Jiangsu University, Zhenjiang, People’s Republic of China) ,  Ge Daohan (National Laboratory of Solid State Microstructures, Nanjing University, Nanjing, People’s Republic of China) ,  Hu Zhou (Institute of Intelligent Flexible Mechatronics, Jiangsu University, Zhenjiang, People’s Republic of China) ,  Fang Zhiwei (Institute of Intelligent Flexible Mechatronics, Jiangsu University, Zhenjiang, People’s Republic of China) ,  Ni Chao (Institute of Intelligent Flexible Mechatronics, Jiangsu University, Zhenjiang, People’s Republic of China) ,  Zhang Liqiang (Institute of Intelligent Flexible Mechatronics, Jiangsu University, Zhenjiang, People’s Republic of China) ,  Zhang Liqiang (National Laboratory of Solid State Microstructures, Nanjing University, Nanjing, People’s Republic of China) ,  Zhu Shining (National Laboratory of Solid State Microstructures, Nanjing University, Nanjing, People’s Republic of China)
資料名： European Physical Journal. D. Atomic, Molecular, Optical and Plasma Physics  (European Physical Journal. D. Atomic, Molecular, Optical and Plasma Physics)
巻： 76  号： 2  ページ： 27  発行年： 2022年 
JST資料番号： W0117B  ISSN： 1434-6060  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多孔質シリコン構造は,その表面上の多数の細孔により光を効果的にトラップできる。したがって,それは光電変換,光子収集および検出のような光学応用の分野で広く使われている。超高反射防止性能を有するミクロポーラスシリコンを,突入電流モデルに基づく電気化学エッチングを用いて作製した。結果は,多孔質シリコン構造がより小さい細孔径範囲を持ち,多孔質シリコンの反射率が30-1000nmの波長で光放射の下で2.27%に減少したことを示した。異なる細孔径と種々のアスペクト比を有する多孔質シリコン構造の表面反射率を,反射防止機構を明らかにするために,有限差分時間領域法を用いて研究した。高い表面品質,高い細孔完全性,細孔直径分布30-700nm,細孔のアスペクト比4を超える多孔質シリコン構造は,300から1000nmの入射光波長の範囲で低反射率を達成するのに有益であり,多孔質シリコン反射防止材料を設計するのに有用であることが分かった。グラフ抽象;Copyright The Author(s), under exclusive licence to EDP Sciences, SIF and Springer-Verlag GmbH Germany, part of Springer Nature 2022 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エッチング ,  光子 ,  *最適化 ,  反射率 ,  *ケイ素 ,  突入電流 ,  光 ,  波長 ,  光照射 ,  モデル ,  *多孔質シリコン ,  有限差分時間領域法
準シソーラス用語： 光電変換 ,  電気化学エッチング ,  *反射防止 ,  入射光 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 反射防止 ,  多孔質シリコン ,  最適化