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J-GLOBAL ID：202202271492695681   整理番号：22A0482229

UV照射と電場を用いた粒子の帯電と浮遊【JST・京大機械翻訳】

Charging and Levitation of Particles Using UV Irradiation and Electric Field

著者 (3件)： Shoyama Mizuki (Department of Chemical Engineering, Kyoto University, Katsura, Kyoto, Japan) ,  Yoshioka Hironobu (Department of Chemical Engineering, Kyoto University, Katsura, Kyoto, Japan) ,  Matsusaka Shuji (Department of Chemical Engineering, Kyoto University, Katsura, Kyoto, Japan)
資料名： IEEE Transactions on Industry Applications  (IEEE Transactions on Industry Applications)
巻： 58  号： 1  ページ： 776-782  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0338B  ISSN： 0093-9994  CODEN： ITIACR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 上向き電場におけるUV照射を用いた粒子の帯電と浮上を調べた。実験には,61μmの質量中央値直径のガラスビーズを用いた。ガラス板上に形成した粒子層を240から400nmの波長のUV光により照射した。最上層の粒子は光電子放出によって正に帯電し,静電力によって浮上した。浮上粒子のフラックスと運動を高速カメラで得られた画像のディジタル処理によって解析した。各浮上粒子の電荷を,実験的に得られた粒子運動に対する運動方程式を用いて計算した結果のフィッティングにより決定した。粒子の電荷は,力バランスによって決定され,従って,UV照射によって影響されなかった。浮上粒子の正電荷は粒子からの連続光電子放出によって増加し,他の粒子によって放出された光電子の捕獲によって減少した。粒子層および浮上粒子からの光電子放出により形成された負電荷雲のため,浮上粒子の約40%が下降した。さらに,第二の実験では,UV照射後に上向き電場を適用した。これらの実験において,上部層の粒子は電場を適用した後に浮上した。これらの粒子は,浮上が力バランスによって支配された粒子よりも,より多くの過剰電荷を得ることができた。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 運動方程式 ,  光電子放出 ,  紫外線 ,  電荷 ,  *電場 ,  高速度カメラ ,  波長 ,  板ガラス ,  *紫外線照射 ,  ガラスビーズ ,  浮上り ,  負電荷 ,  光電子
準シソーラス用語： 正電荷 ,  静電気力 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 静電機器  (NB10020R)

タイトルに関連する用語 (4件)： UV照射 ,  電場 ,  帯電 ,  浮遊