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J-GLOBAL ID：202202271788378080   整理番号：22A0928700

噴霧熱分解法によって作製したTiO_2薄膜の光学的,構造的および誘電特性に及ぼす基板温度の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of substrate temperature on optical, structural and dielectric properties of TiO₂ thin films prepared by spray pyrolysis technique

著者 (2件)： Shamala K.S. (Department of Physics, Mount Carmel College, Bangalore 560052, India) ,  Vishwas M. (Department of Physics, Nrupathunga University, Nrupathunga Road, Bangalore 560001, India)
資料名： Materials Today: Proceedings  (Materials Today: Proceedings)
巻： 52  号： P3  ページ： 1344-1347  発行年： 2022年 
JST資料番号： W3531A  ISSN： 2214-7853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二酸化チタン(TiO_2)薄膜をスプレー熱分解法によりガラスとシリコンウエハのような種々の基板上に作製した。エタノール中でチタン-テトライソプロポキシド(TTIP)を溶解して噴霧溶液を調製した。これらの膜の光学的,構造的および誘電特性を,それぞれ,透過率スペクトル,X線回折(XRD),原子間力顕微鏡(AFM),容量-電圧(C-V)特性によって研究した。TiO_2金属酸化物半導体(MOS)キャパシタを誘電体媒体としてTiO_2を用いて作製した。C-Vプロットを解析し,TiO_2膜の誘電率(ε_r)を決定した。TiO_2膜のε_rの基板温度依存性を調べた。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  ガラス ,  コンデンサ ,  電圧 ,  *薄膜 ,  誘電体 ,  誘電率 ,  *誘電性 ,  酸化チタン ,  温度依存性 ,  スペクトル ,  媒質 ,  ウエハ【IC】 ,  *基板温度 ,  脂肪族アルコール
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  二酸化チタン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： TiO_2薄膜 ,  噴霧熱分解 ,  XRD ,  C-V ,  誘電特性

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： エタノール

タイトルに関連する用語 (6件)： 噴霧熱分解法 ,  作製 ,  薄膜 ,  光学 ,  誘電特性 ,  基板温度