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J-GLOBAL ID:202202271929197909   整理番号:22A0854467

アルミニウムと銅のバックエンドを用いたSiGe技術におけるVバンドT/R増幅器モジュールの性能比較【JST・京大機械翻訳】

Performance Comparison of V-band T/R Amplifier Module in SiGe Technology using Aluminium and Copper Back-end of line
著者 (4件):
資料名:
巻: 2022  号: SiRF  ページ: 20-22  発行年: 2022年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,SiGe:C130nm BiCMOS技術におけるVバンドT/R増幅器モジュールの性能比較を示し,2つの異なるバックエンド,アルミニウムおよび銅を用いて実現した250/340GHzのf_t/f_maxを特徴とする。T/R増幅器モジュールは,統合/ハイブリッドフェイズドアレイシステムのために使用可能であり,2つのSPDTスイッチ,Tx経路におけるPAおよびRx経路におけるLNAから成った。測定結果は,銅バックエンドを用いて実現した増幅器モジュールが約1dB高い利得,Txモードで0.5dB高い出力1dBの圧縮点,およびRxモードで0.4dB低い雑音図を,アルミニウムバックエンドに基づくものと比べて示す。T/R増幅器モジュールは1.1mm2面積を占め,T_x/R_xモードで160mW/50mWを消費する。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
医用画像処理  ,  NMR一般  ,  図形・画像処理一般 

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