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J-GLOBAL ID：202202271957401376   整理番号：22A0429905

珪藻ベースのカドミウムイオン刷込材料の調製と最適化【JST・京大機械翻訳】

Preparation and optimization of diatom-based cadmium ion-imprinted materials

著者 (9件)： Ma Rong (College of Material Science and Engineering, Guilin University of Technology, Guilin 541004, China) ,  Yang Yuhang (College of Material Science and Engineering, Guilin University of Technology, Guilin 541004, China) ,  Zhang Xiaonan (College of Material Science and Engineering, Guilin University of Technology, Guilin 541004, China) ,  Fu Bei (College of Material Science and Engineering, Guilin University of Technology, Guilin 541004, China) ,  Li Xing (College of Material Science and Engineering, Guilin University of Technology, Guilin 541004, China) ,  Huang Lili (College of Environmental Science and Engineering, Guilin University of Technology, Guilin 541006, China) ,  Chen Nanchun (College of Material Science and Engineering, Guilin University of Technology, Guilin 541004, China) ,  Xie Qinglin (College of Environmental Science and Engineering, Guilin University of Technology, Guilin 541006, China) ,  Xie Qinglin (Collaborative Innovation Center for Water Pollution Control and Water Safety in Karst Area, Guilin University of Technology, Guilin 541006, China)
資料名： Journal of Molecular Structure  (Journal of Molecular Structure)
巻： 1251  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0948B  ISSN： 0022-2860  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イオン刷込技術は,その特定の認識性能のため,近年多くの注目を集めている。本研究では,環境に優しい安価な珪藻を基質材料として選択し,新しいCd2+刷込吸着材料を,機能性モノマーとして3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン(MPS),鋳型イオンとしてCd2+,架橋剤としてエピクロロヒドリン(ECH)を用いた表面イオン刷込法を用いて合成した。応答値として吸着量を有する応答曲面法を用いて,合成因子を最適化した。結果は,MPSとECHの1:1の比率と93分の撹拌時間を使用したとき,最も良い吸着効果を達成したことを示した。SEM,FT-IR,TGおよびXPSを用いて,最適化インプリントおよび非インプリント材料を特性化し,その結果,MPSは珪藻土表面に首尾よくグラフトされた。三成分系の競合実験は,最適化インプリント材料が他のイオンよりもCd2+に対して有意に選択的であることを示した。再生実験の結果は,インプリント材料が再現性と構造安定性を有することを示した。そして,それは実際の廃水におけるCd(2+)の除去のための新しいアイデアを提供した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *イオン ,  吸着 ,  *最適化 ,  *カドミウム ,  廃水 ,  撹拌 ,  三成分系 ,  基質 ,  珪藻土 ,  *珪藻類 ,  *刷込 ,  応答曲面法
準シソーラス用語： 吸着量 ,  低価格 ,  *カドミウムイオン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 珪藻 ,  イオンインプリンティング ,  カドミウム ,  最適化 ,  選択性

分類 (3件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  カドミウムとその化合物  (SB05022I) ,  抽出  (CC01040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： 珪藻 ,  カドミウムイオン ,  刷込 ,  調製 ,  最適化