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J-GLOBAL ID：202202272596966833   整理番号：22A0973107

高pHでのサファイア-cへのCTABの吸着:和周波数及び第二高調波発生と組み合わせた表面及びZeta電位測定【JST・京大機械翻訳】

Adsorption of CTAB on Sapphire-c at High pH: Surface and Zeta Potential Measurements Combined with Sum-Frequency and Second-Harmonic Generation

著者 (9件)： Abdelmonem Ahmed (Institute of Meteorology and Climate Research - Atmospheric Aerosol Research (IMKAAF), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Germany) ,  Zhang Yingchun (State Key Laboratory for Mineral Deposits Research, School of Earth Sciences and Engineering, Nanjing University, Jiangsu, China) ,  Braunschweig Bjoern (Institute of Physical Chemistry, Westfaelische Wilhelms University Muenster, Germany) ,  Glikman Dana (Institute of Physical Chemistry, Westfaelische Wilhelms University Muenster, Germany) ,  Rumpel Armin (Institute of Particle Technology (LFG), Friedrich Alexander University Erlangen-Nuernberg, Germany) ,  Peukert Wolfgang (Institute of Particle Technology (LFG), Friedrich Alexander University Erlangen-Nuernberg, Germany) ,  Begovic Tajana (Department of Chemistry, University of Zagreb, Faculty of Science, Croatia) ,  Liu Xiandong (State Key Laboratory for Mineral Deposits Research, School of Earth Sciences and Engineering, Nanjing University, Jiangsu, China) ,  Luetzenkirchen Johannes (Institute of Nuclear Waste Disposal (INE), Karlsruhe Institute of Technology (KIT), Germany)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 38  号： 11  ページ： 3380-3391  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サファイヤ-c表面へのセチルトリメチルアンモニウムブロミド(CTA+Br-)の吸着を,界面活性剤臨界ミセル濃度以下のpH10で研究した。CTAB濃度の関数としての界面電位の発展を,表面およびゼータ電位測定により特性評価し,分子動力学(MD)シミュレーションならびに第二高調波(SHG)および振動和周波数発生(SFG)分光法で補完した。界面電位の変化は,脱プロトン化表面アルミノル基による負の界面電荷が中和され,界面でのCTA+カチオンの存在により補償できることを示唆した。しかし,強い水素結合界面水分子からのSFG強度とSHG強度は,CTAB濃度と表面電位の大きさの両方の増加とともに減少する。それらは界面での電荷反転を示唆しないが,ゼータ電位の変化は実際に見かけの電荷反転と一致する。これはMDシミュレーションの結果によって定性的に説明でき,それは水分子の最初の強束縛水和層の外側に吸着されたCTA+カチオンを明らかにし,そこでは構造秩序を局所的に歪め,第一層に隣接する界面水分子の一部を置換できる。これはCTAB濃度の増加に伴うSFGとSHG強度の顕著な損失の起源であると提案した。さらに,CTA+は対イオンとして作用し,表面電位の減少と一致する脱プロトン化表面アルミノールの発生を増強することを提案した。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  *吸着 ,  シミュレーション ,  表面電位 ,  水素 ,  水和 ,  ζ電位 ,  カチオン ,  *サファイア ,  水分子 ,  対イオン ,  脱プロトン ,  *第二高調波発生
準シソーラス用語： *和周波数 ,  *第二高調波 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (7件)： pH ,  サファイア ,  CTAB ,  吸着 ,  和周波数 ,  第二高調波発生 ,  電位測定