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J-GLOBAL ID：202202272732457017   整理番号：22A1082378

二次元WB_4単層における超低熱伝導率と非調和ラットリング【JST・京大機械翻訳】

Ultralow thermal conductivity and anharmonic rattling in two-dimensional WB₄ monolayer

著者 (5件)： Jiang Xi (Department of Physics and Hebei Advanced Thin Film Laboratory, Hebei Normal University, Shijiazhuang 050024, China) ,  Zhang Zhen (Department of Applied Physics and Applied Mathematics, Columbia University, New York, New York 10027, USA) ,  Liu Zhao (Department of Physics and Hebei Advanced Thin Film Laboratory, Hebei Normal University, Shijiazhuang 050024, China) ,  Wang Jing (Department of Physics and Hebei Advanced Thin Film Laboratory, Hebei Normal University, Shijiazhuang 050024, China) ,  Liu Ying (Department of Physics and Hebei Advanced Thin Film Laboratory, Hebei Normal University, Shijiazhuang 050024, China)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 120  号： 13  ページ： 132202-132202-6  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二次元(2D)WB_4単分子層は,高い電気伝導率と構造安定性を有する典型的なグラフェン類似体である。しかし,その熱輸送特性は利用できない。第一原理計算を用いて,線形化Boltzmann輸送方程式を反復的に解くことにより,T=300Kで0.28W/mKの超低面内格子熱伝導率(κ_lat)を予測した。このような超低κ_latは,強い非調和性に起因するWB_4単分子層の支配的大きなフォノン散乱速度と平坦な音響フォノン分散に起因する。振動パターンと結合環境を解析することにより,2つのホウ素シートのフレームワーク内でタングステン原子ラトルリングである強い非調和性の起源を確認した。このような機構は,フォノンガラス-電子結晶の概念を満足し,WB_4単分子層を優れた2D熱電材料にする。WB_4単層における多重相互作用を含む豊富な形成機構は,超低κ_latを有する材料を探索するためのインスピレーションを提供する。Copyright 2022 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 相互作用 ,  電気伝導率 ,  *熱伝導率 ,  音響 ,  ホウ素 ,  単分子層 ,  多重化 ,  *二次元 ,  フォノン分散 ,  熱電材料 ,  グラフェン
準シソーラス用語： 輸送方程式 ,  フォノン散乱 ,  第一原理計算 ,  格子熱伝導率 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 誘電体一般  (BM05010F) ,  トランジスタ  (NC03070N) ,  薄膜一般  (BK14010X)

タイトルに関連する用語 (3件)： 単層 ,  熱伝導率 ,  ラットリング