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J-GLOBAL ID：202202272753609144   整理番号：22A1186164

光触媒H_2発生および汚染物質分解のためのWS_2/In_2S_3複合光触媒【JST・京大機械翻訳】

WS₂/In₂S₃ composite photocatalyst for photocatalytic H₂ generation and pollutant degradation

著者 (6件)： Guo Bingrong (National & Local Joint Engineering Laboratory of Light Conversion Materials & Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China. [e-mail]) ,  Liu Bin ,  Wang Chaoli ,  Wang Yuhua ,  Yin Shu ,  Han Weihua
資料名： New Journal of Chemistry  (New Journal of Chemistry)
巻： 46  号： 16  ページ： 7366-7373  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0785A  ISSN： 1144-0546  CODEN： NJCHE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光キャリアの再結合は光触媒の性能に影響する重要な因子である。ヘテロ接合光触媒のアーキテクチャを設計することは,光キャリア分離と輸送のブースティングを通して再結合を抑制するための有効な戦略である。ここでは,二層シート状構造を有するZスキームWS_2/In_2S_3光触媒を合成し,走査電子顕微鏡,透過型電子顕微鏡,X線光電子分光法,電子常磁性共鳴,およびMott-Schottky測定により調べた。キャラクタリゼーション結果は,ユニークな構造が電荷移動距離を減少でき,光触媒反応を促進するためにより多くの表面積を提供できることを示した。さらに,Zスキーム構造は,それらの強いレドックス能力を保持しながら,光キャリアを効果的に分離する。このように,H_2発生とテトラサイクリン塩酸塩分解に対する顕著な光触媒活性が達成された。その結果,最適50wt%ZスキームWS_2/In_2S_3複合材料は,592.9μmol g-1h-1の最も高いH_2生成速度と60分以内に90%の最良のテトラサイクリン塩酸塩分解効率を示した。さらに,二層Zスキーム光触媒も優れた安定性とリサイクル性を示した。本研究は,ナノシートのような適切なナノビルディングブロックを有するZ-スキーム複合光触媒を構築することによって,光キャリアの分離と移動を促進する新しいアイデアを提供する。Copyright 2022 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ESR【磁気共鳴】 ,  ヘテロ接合 ,  再結合 ,  走査電子顕微鏡 ,  電荷移動 ,  触媒活性 ,  酸化還元反応 ,  X線光電子分光法 ,  光触媒反応 ,  *光触媒 ,  計算機アーキテクチャ ,  透過型電子顕微鏡 ,  ナノシート
準シソーラス用語： ビルディングブロック ,  光触媒活性 ,  Z-スキーム , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (3件)： 光触媒 ,  汚染物質 ,  分解