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J-GLOBAL ID：202202273234452491   整理番号：22A0943745

核応用のためのホウケイ酸ガラスによる拡散アニーリングを受けた電子ビーム蒸着Ni-YSZナノ複合材料被覆の相互拡散効果とトライボロジー挙動【JST・京大機械翻訳】

Inter-diffusion effects and tribological behaviour of electron beam evaporated Ni-YSZ nanocomposite coatings subjected to diffusion annealing with borosilicate glass for nuclear applications

著者 (7件)： Dharini T. (Centre for Nanoscience and Nanotechnology, Sathyabama Institute of Science and Technology, Chennai, 600119, India) ,  Kuppusami P. (Centre for Nanoscience and Nanotechnology, Sathyabama Institute of Science and Technology, Chennai, 600119, India) ,  Kuppusami P. (Centre of Excellence for Energy Research, Sathyabama Institute of Science and Technology, Chennai, 600119, India) ,  Kumar D. Dinesh (Centre for Nanoscience and Nanotechnology, Sathyabama Institute of Science and Technology, Chennai, 600119, India) ,  Kirubaharan A.M. Kamalan (Centre for Nanoscience and Nanotechnology, Sathyabama Institute of Science and Technology, Chennai, 600119, India) ,  Kumar S. Ajith (Centre for Nanoscience and Nanotechnology, Sathyabama Institute of Science and Technology, Chennai, 600119, India) ,  Kirubaharan A.M. Kamalan (Coating Department, FunGlass - Centre for Functional and Surface Functionalised Glass, Alexander Dubcek University of Trencin, 91150 Trencin, Slovakia)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 48  号： 9  ページ： 13319-13330  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： インコネル-690合金製の原子力ガラス化炉は,合金-ホウケイ酸塩ガラス相互作用により,合金-ホウケイ酸塩界面中に耐食性の損失と核廃棄物の取込みをもたらすCrリッチ二次析出物を形成することにより,早すぎる。本研究では,電子ビーム物理蒸着法を用いた新規組成傾斜Ni-YSZ拡散障壁被覆の開発を,いかなる核廃棄物の添加なしで合金-ホウケイ酸塩メルトを横切る相互拡散と元素交換に関連する問題を緩和するために研究した。空気中1373Kでホウケイ酸メルトの有無による拡散焼鈍を施した5から50wt%までのNi含有量増加による組成傾斜Ni-YSZナノ複合被覆の相互拡散効果の比較研究を行った。XRD分析から観察したように,空気中で1373Kで拡散焼鈍を施したNi-YSZコーティングでは相変態は観察されなかった。FESEM-EDS分析は,熱処理後のYSZマトリックス中のNiOの生成とNiOの粒成長を確認した。Raman分光研究は,Niリッチ多層からYSZトップコートへのNiの外向き拡散とNi-YSZナノ複合材料の表面でのNiOの形成を確認した。対照的に,ガラス層の表面上にNiOの痕跡がないので,ナノ複合材料被覆と付着ホウケイ酸層の間の界面を横切る元素交換はなかった。摩耗痕跡の異なるモードとRaman分光法を用いた摩耗痕跡内の化学変化を解析することにより,ホウケイ酸ガラス有りと無しの高温拡散焼鈍を施した組成傾斜Ni-YSZナノ複合材料被覆について,摩耗挙動を調べた。拡散アニールしたNi-YSZナノ複合材料で得られたより高い硬度と耐摩耗性の観察は,被覆の表面上のNiOの形成によることが分かった。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  界面 ,  結晶成長 ,  高温 ,  *焼なまし ,  *相互拡散 ,  耐摩耗性 ,  付着 ,  *ニッケル ,  耐食性 ,  X線回折分析 ,  セラミック被覆 ,  インコネル ,  Raman分光法 ,  メルト
準シソーラス用語： 摩耗痕 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： Ni-YSZ ,  ナノ複合材料被覆 ,  Raman分光法 ,  相互拡散 ,  セラミック拡散障壁コーティング ,  金属-セラミック被覆

分類 (2件)： 機械的性質  (WB02030U) ,  電気めっき  (WC08023B)

タイトルに関連する用語 (11件)： 核 ,  応用 ,  ホウケイ酸ガラス ,  拡散 ,  アニーリング ,  電子ビーム蒸着 ,  Ni ,  YSZ ,  ナノ複合材料 ,  拡散効果 ,  トライボロジー挙動