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J-GLOBAL ID：202202275623600225   整理番号：22A0992664

ファイバベースTiNi形状記憶合金薄膜の調製技術【JST・京大機械翻訳】

Technique of TiNi-based shape memory alloy thin film coating on optical fibers

著者 (3件)： Dang Junpo (广東工業大学机電工程学院,广州 510006) ,  Jiang Xiujuan (广東工業大学机電工程学院,广州 510006) ,  Tang Zhenhua (广東工業大学物理与光電工程学院,广州 510006)
資料名： Wuli Xuebao  (Wuli Xuebao)
巻： 71  号： 3  ページ： 72-81  発行年： 2022年 
JST資料番号： B0628A  ISSN： 1000-3290  CODEN： WLHPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： TiNi基記憶合金薄膜と光ファイバーを結合させ、知能化、集積化、コスト経済のマイクロエレクトロメカニカルシステムとマイクロセンサー部品を作成できる。本論文では、マグネトロンスパッタリング法を用いて、シリカ光ファイバ基材上にTiNi記憶合金薄膜を作製し、スパッタリングプロセスパラメーター及び後続アニーリング処理が薄膜品質に与える影響を系統的に検討した。直径125μmのファイバの円周の表面上に均一薄膜を形成した。実験により、ターゲットの距離、背底の真空度、Ar気流量とスパッタリング時間が一定の条件下で、スパッタリングパワーは最適値があり、スパッタリング圧力が大きい時、薄膜の堆積速度は比較的に低いが、薄膜の表面粗さは小さいことが分かった。アニーリング処理後,Ti49.09Ni50.91薄膜では,マルテンサイトB19′相とオーステナイトB2相が共存するが,B19′が主である。本論文の研究結果に基づき、ガラスファイバー基材に高品質のTiNi基記憶合金薄膜を作製することは可能で、本仕事は次のステップでマイクロエレクトロメカニカルシステムとマイクロセンサーを製作する基礎準備を行った。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ガラス ,  焼なまし ,  *薄膜 ,  アルゴン ,  気流 ,  オーステナイト ,  マルテンサイト ,  二酸化ケイ素 ,  堆積速度 ,  *金属薄膜 ,  *形状記憶効果 ,  光ファイバ ,  プロセスパラメータ ,  MEMS
準シソーラス用語： マイクロセンサ ,  *合金薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (5件)： ファイバ ,  TiNi ,  形状記憶 ,  合金薄膜 ,  調製