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J-GLOBAL ID：202202276922902369   整理番号：22A0653764

炭素表面に対する半古典的フォノン誘起脱着モデル【JST・京大機械翻訳】

A semi-classical phonon-induced desorption model for carbon surfaces

著者 (2件)： Kondur Chaithanya (University of Illinois at Urbana-Champaign) ,  Stephani Kelly A. (University of Illinois at Urbana-Champaign)
資料名： AIAA Conference Proceedings / Meeting Papers  (AIAA Conference Proceedings / Meeting Papers)
巻： 2022  号： AIAA SCITECH 2022 Forum  ページ： 1280  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0236B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 材料表面からの吸着物の脱着は,吸着物の表面フォノンとの相互作用を通して起こる。本研究では,フォノンマスタ方程式モデルを用いて炭素表面からの吸着物の脱着を研究した。吸着質-フォノン相互作用を,格子内の熱変動によって駆動されるランダムウォークを受ける表面吸着非調和振動子としてモデル化した。脱着は,振動子の連続体状態に導くランダムウォークから生じる。新しい半古典的モデルを導入し,分子動力学を用いて熱変動を定量化し,密度行列式を用いて遷移速度を計算した。銅上に吸着したCOの以前に研究された系の脱着速度定数を用いて新しいモデルを検証した。グラファイト表面のトップおよびブリッジサイト配置からのO脱着の速度定数を示した。原子相互作用を正確に表す重要性を示した。得られた速度定数は常に単純なArrhenius速度方程式によってモデル化できなかった。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 相互作用 ,  *脱着 ,  *フォノン ,  マスタ方程式 ,  密度行列 ,  *炭素 ,  銅 ,  グラファイト ,  モデリング ,  振動子 ,  酔歩 ,  レート方程式 ,  分子動力学 ,  脱着速度
準シソーラス用語： 吸着質 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  金属の表面構造  (BK15020P) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (5件)： 炭素 ,  フォノン ,  誘起 ,  脱着 ,  モデル