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J-GLOBAL ID：202202277142899662   整理番号：22A0737892

実廃水とH_2生産の相乗的光触媒分解のためのin situ超分子自己集合により駆動される硫黄空孔-VS_2@C_3N_4:空格子点のターミング界面コンパクトヘテロ接合とキャリア移動【JST・京大機械翻訳】

Sulphur vacancies-VS₂@C₃N₄ drived by in situ supramolecular self-assembly for synergistic photocatalytic degradation of real wastewater and H₂ production: Vacancies taming interfacial compact heterojunction and carriers transfer

著者 (7件)： Li Gen (Provincial Guizhou Key Laboratory of Green Chemical and Clean Energy Technology, School of Chemistry and Chemical Engineering, Guizhou University, Guiyang 550025, Guizhou, China) ,  Deng Xiaoxu (College of Big Data and Information Engineering, Guizhou University, Guiyang 550025, Guizhou, China) ,  Chen Peng (Provincial Guizhou Key Laboratory of Green Chemical and Clean Energy Technology, School of Chemistry and Chemical Engineering, Guizhou University, Guiyang 550025, Guizhou, China) ,  Wang Xiaodan (School of Liquor and Food Engineering, Guizhou University, Guiyang 550025, Guizhou, China) ,  Ma Jun (Provincial Guizhou Key Laboratory of Green Chemical and Clean Energy Technology, School of Chemistry and Chemical Engineering, Guizhou University, Guiyang 550025, Guizhou, China) ,  Liu Fei (Provincial Guizhou Key Laboratory of Green Chemical and Clean Energy Technology, School of Chemistry and Chemical Engineering, Guizhou University, Guiyang 550025, Guizhou, China) ,  Yin Shuang-Feng (State Key Laboratory of Chemo/Biosensing and Chemometrics, Provincial Hunan Key Laboratory for Cost-effective Utilization of Fossil Fuel Aimed at Reducing Carbon-dioxide Emissions, College of Chemistry and Chemical Engineering, Hunan University, Changsha 410082, Hunan, China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 433  号： P1  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヘテロ接合間の相界面の合理的な構築は触媒活性を高めるための重要な戦略であるが,むしろ限定的である。本論文では,in situ超分子自己集合法によりS空孔を有するコンパクトなヘテロ接合VS_2@C_3N_4を合成するための普遍的な方法を開発した。それは顕著な相乗的水素生産速度(9628μmol g-1h-1)と廃水分解効率ならびに安定性を示し,これはC_3N_4の16.0倍であり,従来の水素生産に近い。理論計算と実験結果は,S空孔がコンパクトなヘテロ構造の形成と仕事関数の減少をもたらし,界面キャリア移動と表面特性を促進することを示した。さらに,コアシェル構造はS空孔の安定性を改善した。言い換えると,本研究は,空格子点を有するTMDコア-シェル構造の構築に普遍的な方法を提供するだけでなく,光触媒の空格子点界面でのキャリア分離に関する深い理解を与える。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ヘテロ接合 ,  *界面 ,  *空格子点 ,  仕事関数 ,  *廃水 ,  触媒活性 ,  *接触分解 ,  *硫黄 ,  *光触媒反応 ,  *光触媒 ,  *超分子 ,  *自己集合 ,  コアシェル構造
準シソーラス用語： 水素製造 ,  ヘテロ構造 ,  *光触媒分解 ,  *キャリア移動 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 遷移金属ジカルコゲナイド ,  C_3N_4 ,  硫黄空孔 ,  光触媒分解 ,  H_2生産

分類 (1件)： 触媒操作  (XE01050T)

タイトルに関連する用語 (11件)： 廃水 ,  光触媒分解 ,  超分子 ,  自己集合 ,  硫黄 ,  空孔 ,  空格子点 ,  界面 ,  コンパクト ,  ヘテロ接合 ,  キャリア移動