文献
J-GLOBAL ID:202202277682355674   整理番号:22A1140775

ポリマー薄膜の大気圧マイクロプラズマジェット無マスクエッチングプロセス【JST・京大機械翻訳】

Unmasked Etching Process of Atmospheric Pressure Micro-plasma Jet of Polymer Films
著者 (7件):
資料名:
巻: 39  号:ページ: 37-42  発行年: 2022年 
JST資料番号: C3560A  ISSN: 1671-7872  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
直径がミクロンの大気圧マイクロプラズマジェットエッチングプロセスを最適化するため、簡単な構造、操作便利な大気圧マイクロプラズマジェット装置を製作し、典型的なポリマーであるparylene-C薄膜を対象にした。大気圧マイクロプラズマジェットによるparylene-C薄膜のエッチングプロセスを研究し、O2流量、動作電圧、作業間隔とエッチング時間などのプロセスパラメータがエッチング線幅とエッチング深さに与える影響を分析した。結果は以下を示した。O2流量,動作電圧,動作間隔およびエッチング時間の増加は,エッチング深さおよびエッチング深さを増加した。上述のプロセスパラメータを継続的に増大させ、エッチング線幅とエッチング深さの増加は明らかでなく、さらに減少さえした。動作電圧と作業間隔はparylene-C薄膜のエッチング効果への影響が大きく、エッチング過程においてキー作用を発揮し、この2つのパラメータを調整することで、ポリマーエッチング過程の制御可能な調節を実現できる。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般  ,  プラズマ応用 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る