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J-GLOBAL ID:202202278376434578   整理番号:22A0976623

酸素プラズマドーピングにより作製した高性能MoS_2相補型インバータ【JST・京大機械翻訳】

High-Performance MoS2 Complementary Inverter Prepared by Oxygen Plasma Doping
著者 (13件):
資料名:
巻:号:ページ: 955-963  発行年: 2022年 
JST資料番号: W5669A  ISSN: 2637-6113  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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二次元遷移金属カルコゲン化物は,その原子レベル厚さと優れた半導体特性のため,Moore則を超える小型化のための最も有望な材料の1つになった。インバータは,最も基本的な論理ゲート回路である。二重温度ゾーン化学蒸着と酸素プラズマドーピング技術を用いて,n型とp型MoS_2材料を得て,MoS_2 CMOSインバータを設計し,優れた電気的性能を示した。V_dd=5Vの条件の下で,インバータのピーク電圧利得は7.48であり,最大静的電力消費は37.7nWであり,雑音マージンは0.45V_ddであり,雑音マージンは0.32V_ddであり,インバータはより良いV_in-V_out信号整合を示した。室温での空気環境における42日間の継続時間の後,インバータのV_outは,高レベルの出力電圧の場合に,3.75%だけ減少し,そして,出力電圧の低レベルは,基本的に不変であった。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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