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J-GLOBAL ID：202202279500699886   整理番号：22A0974660

電極触媒窒素還元を強化するためのRh原子層修飾SnO_2ヘテロ構造の界面Electron制御【JST・京大機械翻訳】

Interfacial Electron Regulation of Rh Atomic Layer-Decorated SnO₂ Heterostructures for Enhancing Electrocatalytic Nitrogen Reduction

著者 (8件)： Liu Yongqin (College of Chemistry, Jilin University, Jilin, P. R. China) ,  Liu Yongqin (State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China) ,  Huang Liang (State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China) ,  Fang Youxing (State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China) ,  Zhu Xinyang (State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China) ,  Nan Jianli (College of Chemistry, Jilin University, Jilin, P. R. China) ,  Dong Shaojun (College of Chemistry, Jilin University, Jilin, P. R. China) ,  Dong Shaojun (State Key Laboratory of Electroanalytical Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Jilin, P. R. China)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 14  号： 10  ページ： 12304-12313  発行年： 2022年 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 肥料供給として役立つAmmonia(NH_3)は,世界中で成長している人口要求を満足させるのに努めている。NH_3生成への電極触媒窒素還元は非常に望まれるが,報告された電極触媒の極めて貧弱な活性と選択性を示した。本研究では,界面工学戦略により,新しいRh原子層修飾SnO_2ヘテロ構造触媒を合理的に設計し,同時に最高のNH_3収率(149μgh-1mg_cat-1)と-0.35V対可逆水素電極でFaraday効率(11.69%)を達成した。この結果は,電気化学的窒素還元のための以前に報告されたSnO_2-またはRh系触媒の最適応答よりも優れている。X線吸収スペクトルキャラクタリゼーションと密度汎関数理論計算の両方は,Rh原子層とSnO_2ヘテロ構造の間の強い電子相互作用を明らかにし,これは界面電子移動とdバンド中心を効果的に制御した。d-バンド中心のダウンシフトは,窒素還元に対するH吸着エネルギーを大きく減少させ,反応速度を大きく加速した。本研究は,H吸着を弱め,さらに電極触媒N_2還元を増強するための界面電子調節に新しい洞察を与えた。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *界面 ,  *還元 ,  吸着 ,  相互作用 ,  反応速度 ,  *窒素 ,  *ロジウム ,  *素子構造 ,  *電極触媒 ,  電気化学 ,  水素電極 ,  電子移動 ,  X線吸収スペクトル ,  吸着エネルギー
準シソーラス用語： *ヘテロ構造 ,  *原子層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 電極触媒 ,  N_2還元反応 ,  Rh原子層修飾SnO_2 ,  ヘテロ構造界面制御 ,  H吸着の弱化

分類 (3件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (9件)： 電極触媒 ,  窒素 ,  還元 ,  強化 ,  Rh ,  原子層 ,  修飾 ,  ヘテロ構造 ,  界面