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J-GLOBAL ID：202202279556229001   整理番号：22A0973414

冶金シリコン原料からのほう素除去のための新しいCrFeCoNiSi_6/Si系【JST・京大機械翻訳】

Novel CrFeCoNiSi₆/Si System for Boron Removal from Metallurgical Silicon Feedstock

著者 (7件)： Xiang Mengqi (School of Chemical Engineering, Sichuan University, Sichuan, P. R. China) ,  Han Zike (Zhejiang Huayou Cobalt Co., Ltd., Zhejiang, P. R. China) ,  Wang Ye (School of Chemical Engineering, Sichuan University, Sichuan, P. R. China) ,  Tang Wenxiang (School of Chemical Engineering, Sichuan University, Sichuan, P. R. China) ,  Chen Zhiyuan (Flemish Institute for Technological Research (VITO), Belgium) ,  Ma Wenhui (National Engineering Laboratory of Vacuum Metallurgy, Kunming University of Science and Technology, Yunnan, P. R. China) ,  Morita Kazuki (Department of Material Engineering, The University of Tokyo, Japan)
資料名： Industrial & Engineering Chemistry Research  (Industrial & Engineering Chemistry Research)
巻： 61  号： 9  ページ： 3412-3417  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0385C  ISSN： 0888-5885  CODEN： IECRED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 不純物除去と金属ホウ化物形成の相乗効果に基づいて,HEA(CrFeCoNi)溶媒を用いて冶金グレードSiからBを除去した。Si/CrFeCoNiSi_6(HEA)系によるSiの精製により,HEAsとCrB_2の化合物をエネルギー分散X線分光法(XRD)を用いて見出したが,HEAの機械的性質はドーピングBによって強化された。方向性凝固過程で,Si/HEA系におけるBの固溶度(~1600ppmw)と偏析係数(~0.07)を観察した。冷却速度とHEAに対するSiの質量比が減少すると,Bの拡散速度はそれに応じて増加した。結果は,HEAsがB除去の溶媒として有効であることを示した。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  機械的性質 ,  *ケイ素 ,  固溶度 ,  X線回折分析 ,  相乗作用 ,  比率 ,  ドーピング ,  拡散速度 ,  冷却速度 ,  *冶金 ,  エネルギー分散X線分光分析
準シソーラス用語： 偏析係数 ,  不純物除去 ,  質量比 ,  方向性凝固 ,  *ホウ素除去 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 抽出  (XD02030B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 冶金 ,  シリコン原料 ,  ほう素 ,  Si