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J-GLOBAL ID：202202280317586253   整理番号：22A0396626

デジタル紫外線リソグラフィーによる高分子光導波路の作製【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of Polymer Optical Waveguides by Digital Ultraviolet Lithography

著者 (6件)： Ding Zuoqin (Photonics Research Institute, Department of Electrical Engineering, The Hong Kong Polytechnic University, Hong Kong SAR, Kowloon, China) ,  Wang Han (Photonics Research Institute, Department of Electrical Engineering, The Hong Kong Polytechnic University, Kowloon, Hong Kong SAR, China) ,  Li Taige (Photonics Research Institute, Department of Electrical Engineering, The Hong Kong Polytechnic University, Kowloon, Hong Kong SAR, China) ,  Ouyang Xia (Photonics Research Institute, Department of Electrical Engineering, The Hong Kong Polytechnic University, Kowloon, Hong Kong SAR, China) ,  Shi Yaocheng (Center for Optical and Electromagnetic Research, College of Optical Science and Engineering, International Research Center for Advanced Photonics, Zhejiang University, Hangzhou, China) ,  Zhang A. Ping (Photonics Research Institute, Department of Electrical Engineering, The Hong Kong Polytechnic University, Kowloon, Hong Kong SAR, China)
資料名： Journal of Lightwave Technology  (Journal of Lightwave Technology)
巻： 40  号： 1  ページ： 163-169  発行年： 2022年 
JST資料番号： H0922A  ISSN： 0733-8724  CODEN： JLTEDG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ディジタル紫外(UV)リソグラフィーを用いた高分子光導波路の設計,製作および特性評価を示した。二次形式における非線形補償によるグレイスケール光学露光を適用して,2つの隣接サブパターン間の遷移ゾーンのステッチング損失を最小にした。Gauss分布を有する散乱光ピクセルの近似の下で計算される露光線量マップに基づいて,リソグラフィープロセスにおける近接効果を補償する。作製した高分子導波路の曲げ損失と伝搬損失を,それぞれ,約0.1dB/90°曲げと0.238dB/mmであると実験的に特性化した。さらに,1・2多モード干渉パワースプリッタ,1・2Y分岐パワースプリッタ,およびマイクロリング共振器を,導波路の急速作製に関するリソグラフィー技術の実現可能性を示すことを実証した。このようなUVリソグラフィー技術は,全ディジタルグレースケールと動的光露光のための膨大な数光ピクセルを柔軟に操作し,従って,マルチモード交差のための2.5D導波路とバイオセンシングのための高分子導波路デバイスのような新しい光導波路ベースデバイスとセンサの作製を可能にする。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 正規分布 ,  グレースケール ,  露光 ,  *高分子 ,  画素 ,  *光導波路 ,  近接効果 ,  *リソグラフィー ,  多モード ,  *導波路 ,  バイオセンサ
準シソーラス用語： マイクロリング共振器 ,  多モード干渉 ,  曲げ損失 ,  伝搬損失 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (5件)： デジタル ,  紫外線リソグラフィー ,  高分子 ,  光導波路 ,  作製