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J-GLOBAL ID:202202281439932405   整理番号:22A0975436

プロピオン酸のケトン化中のCeO_2ファセット依存表面反応性中間体と活性【JST・京大機械翻訳】

CeO2 Facet-Dependent Surface Reactive Intermediates and Activity during Ketonization of Propionic Acid
著者 (7件):
資料名:
巻: 12  号:ページ: 2998-3012  発行年: 2022年 
JST資料番号: W5035A  ISSN: 2155-5435  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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CeO_2ロッド,八面体,および立方体を,それぞれ,明確な(110),(111),および(100)表面を曝露し,プロピオン酸の触媒ケトン化のために研究した。ロッド,八面体,および立方体上の350°Cでの固有のケトン化率は,それぞれ54.3,40.4,および25.1mmol・m-2・h-1であり,(110)ファセットがケトン化のための最も活性な表面であることを示した。反応は過渡条件下でin situ赤外と質量分析の両方によって追跡され,結果は少数表面種,単座配位プロピオン酸が3-ペンタノンの生成の原因であることを示した。対照的に,二座プロピオン酸塩は,3つの表面全てで優勢種であり,ケトン化のスペクテータであるように見える。さらに,ケトン化活性は単座配位プロピオン酸の相対濃度と相関する。密度汎関数理論研究は,高被覆率での単座配位プロピオナートの相対濃度(または単座配位と二座配置間の吸着エネルギー差)が表面形状に強く依存することを示した。よく分離したCeサイトを有する最外層のOとCeサイトの両方に曝露した(110)表面上の単座配位プロピオン酸の安定性は,プロピオン酸被覆率にほとんど依存しなかった。対照的に,最上層O原子による強い立体障害と(111)中の密に充填されたCe原子は,高被覆率で,単座配位プロピオン酸塩を著しく不安定化した。本研究は,CeO_2の表面幾何構造が,活性単座配位プロピオン酸の存在量を決定でき,次に,ケトン化のためのCeO_2の触媒活性を決定することを示した。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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