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J-GLOBAL ID:202202281586536584   整理番号:22A0949527

フッ素化エポキシ-アミン架橋マトリックスによる体積ホログラフィック記録のための二段階感光性高分子の性能向上【JST・京大機械翻訳】

Improving performance of two-stage photopolymers for volume holographic recording by fluorinated epoxy-amine cross-linked matrices
著者 (10件):
資料名:
巻: 139  号: 20  ページ: e52161  発行年: 2022年 
JST資料番号: C0467A  ISSN: 0021-8995  CODEN: JAPNAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ホストマトリックスは,光重合体の体積ホログラフィック格子形成において重要な役割を果たす。本研究では,低屈折率(1.44~1.46)の一連のフッ素化エポキシ樹脂(FTGE)を合成し,核磁気共鳴スペクトル(1H NMR,19F NMR)およびFourier変換赤外スペクトル(FTIR)によりキャラクタリゼーションを行った。フッ素化エポキシ-アミン架橋マトリックスを室温で生成し,それらの熱重合特性を実時間FTIRと熱重量分析(TGA)により調べた。ホストマトリックスとしてフッ素化エポキシアミンを用いて,ホログラフィックフォトポリマーを作製した。異なる種類の(Prop-FTGE,Buta-FTGE,およびPenta-FTGE)およびFTGEの重量比(0%,8%,16%および23%)が,光重合体のホログラフィック性能に及ぼす影響を調べた。結果は,23%のProp-FTGEを有する試料が,最も優れたホログラフィック光学特性を有することを示した。23%のProp-FTGEを有する0.5mm厚さの試料は80mJ/cm2の曝露量で91%の回折効率に達し,0.24°の角度選択性で2000lp/mmのBragg体積格子を得た。一方,単一パルス露光モード(150-200psパルス幅,25mJ/cm2曝露量)の下で,4.4%回折効率の格子が得られ,これは試料の超高速応答と記録能力を証明した。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
高分子固体の物理的性質  ,  高分子固体の構造と形態学 

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