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J-GLOBAL ID：202202282548656239   整理番号：22A0178700

RFマグネトロンスパッタリングにより堆積した(TiVCrNbSiTaBY)N高エントロピー合金窒化物被覆の微細構造と特性に及ぼすバイアス電圧の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of bias voltages on microstructure and properties of (TiVCrNbSiTaBY)N high entropy alloy nitride coatings deposited by RF magnetron sputtering

著者 (11件)： Zhang Xiangyu (School of Power & Mechanical Engineering, Wuhan University, Wuhan, 430072, China) ,  Zhang Xiangyu (School of Printing and Packaging, Wuhan University, Wuhan, 430072, China) ,  Pelenovich Vasiliy (Institute of Technological Sciences of Wuhan University, Wuhan, 430072, China) ,  Liu Yan (School of Power & Mechanical Engineering, Wuhan University, Wuhan, 430072, China) ,  Ke Xianwen (School of Printing and Packaging, Wuhan University, Wuhan, 430072, China) ,  Zhang Jun (School of Power & Mechanical Engineering, Wuhan University, Wuhan, 430072, China) ,  Yang Bing (School of Power & Mechanical Engineering, Wuhan University, Wuhan, 430072, China) ,  Yang Bing (Shenzhen Research Institute of Wuhan University, Shenzhen, 518057, China) ,  Ma Guanbing (CGN Testing Technology Co., Ltd., Shenzhen, 215004, China) ,  Li Ming (CGN Testing Technology Co., Ltd., Shenzhen, 215004, China) ,  Wang Xianbin (CGN Testing Technology Co., Ltd., Shenzhen, 215004, China)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 195  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： (TiVCrNbSiTaBY)N高エントロピー合金窒化物(HEAN)被覆を,高周波マグネトロンスパッタリングによりSi(100)と超硬合金基板に蒸着した。異なるバイアス電圧で堆積を行い,コーティングの微細構造,形態,機械的性質およびトライボロジー挙動に及ぼす影響を調べた。すれすれ入射X線回折(GIXRD)法は,全ての被覆が単一NaCl型面心立方(FCC)結晶構造を示し,一方,結晶構造の優先配向はバイアス電圧によって大きく影響されることを示した。高分解能透過型電子顕微鏡(TEM)は,コーティングの構造が非晶質様相とFCC結晶構造の混合物であり,GIXRDデータと一致することを明らかにした。断面走査Electron顕微鏡(SEM)画像は,被覆の柱状構造がバイアス電圧の増加で徐々に特徴のない高密度構造に変換することを示した。SEMと原子間力顕微鏡は,表面形態がバイアス電圧の増加と共に滑らかになることを明らかにした。特定のバイアス電圧で堆積した(TiVCrNbSiTaBY)N HEAN被覆は32.2GPaの高い硬度を示した。摩擦係数は被覆表面粗さの変化によって著しく影響される。低バイアス電圧で堆積された被覆に対するトライボロジー試験は,被覆の摩耗挙動が,厳しいアブレシブ摩耗と凝着摩耗であり,一方,高バイアス電圧では,わずかなアブレシブ摩耗が出現することを示した。基板バイアス電圧を印加することにより,(TiVCrNbSiTaBY)N被覆は,優れた機械的およびトライボロジー性能を示し,切削工具または部品における保護被覆に対する有望な候補である。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶構造 ,  *電圧 ,  摩擦係数 ,  切削工具 ,  超硬合金 ,  *被覆 ,  *窒化物 ,  塩化ナトリウム ,  非晶質 ,  トライボロジー ,  優先配向 ,  アブレシブ摩耗 ,  原子間力顕微鏡
準シソーラス用語： 表面形態 ,  *バイアス電圧 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 高エントロピー合金窒化物被覆 ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  Bias電圧 ,  微細構造 ,  硬度 ,  トライボロジー性能

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (6件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  高エントロピー合金 ,  窒化物 ,  微細構造 ,  バイアス電圧