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J-GLOBAL ID:202202285115917077   整理番号:22A0464612

光触媒効率改善のためのVをドープした2D層状SnS_2におけるバンドギャップ収縮と電荷移動【JST・京大機械翻訳】

Bandgap Shrinkage and Charge Transfer in 2D Layered SnS2 Doped with V for Photocatalytic Efficiency Improvement
著者 (25件):
資料名:
巻: 18  号:ページ: e2105076  発行年: 2022年 
JST資料番号: W2348A  ISSN: 1613-6810  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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Vドープ2D層状SnS_2の電子および原子構造の影響を,光触媒/光起電力応用の開発のためにX線分光法を用いて調べた。VK端での拡張X線吸収微細構造測定は,SnS_2層のvan der Waals(vdW)ギャップにおける四面体O-V-Sサイトのインターカレーションを形成するV-OとV-S結合の存在を明らかにした。X線吸収端近傍構造(XANES)は,SnS_2中のVドーパントの原子価状態が≒4+であるが,V L_α,β共鳴非弾性X線散乱により支持されたVから配位子への電荷移動(CT)も明らかにした。これらの結果は,Vドーピングが余分な層間共有結合相互作用と付加的伝導チャネルを生成し,電子伝導率とCTを増加させることを示唆する。これは,層状SnS_2における光励起電子の急速な輸送と効果的なキャリア分離を与える。さらに,価電子帯光電子放出スペクトルおよびS K端XANESは,価電子帯最大近傍の状態密度が,元のSnS_2と比較して,VドープSnS_2においてより低い結合エネルギーにシフトし,バンドギャップ収縮を示すことを示した。これらの発見は,VドープSnS_2中のVから配位子へのCTを強調して,vdWギャップに層間挿入された格子間四面体O-V-Sサイトの第一原理密度汎関数理論計算を支持した。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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