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J-GLOBAL ID：202202285970934172   整理番号：22A1092586

光電子回折の前方散乱領域における干渉現象のエネルギー依存性【JST・京大機械翻訳】

Energy dependence of interference phenomena in the forward-scattering regime of photoelectron diffraction

著者 (4件)： Tricot S. (Univ Rennes, CNRS, IPR (Institut de Physique de Rennes) - UMR 6251, F-35000, Rennes, France) ,  Jaouen T. (Univ Rennes, CNRS, IPR (Institut de Physique de Rennes) - UMR 6251, F-35000, Rennes, France) ,  Sebilleau D. (Univ Rennes, CNRS, IPR (Institut de Physique de Rennes) - UMR 6251, F-35000, Rennes, France) ,  Schieffer P. (Univ Rennes, CNRS, IPR (Institut de Physique de Rennes) - UMR 6251, F-35000, Rennes, France)
資料名： Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena  (Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena)
巻： 256  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0266C  ISSN： 0368-2048  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： X線回折は,C.Sの直接レガシーにおける強力な分光学的技術である。Fadleyは,結晶中の原子の配列に高感度を結合し,元素特異性は,物質中の選択された原子サイトのユニークな指紋を提供する。500eVと1500eVの間の運動エネルギーで用いると,その解釈と記述は,原子散乱因子が,低角散乱と後方散乱事象がそれぞれ支配的で,光電子放出過程でほとんど無関係であるような方法で強く前進するという事実に基づいている。本論文では,高エネルギー(500-1500eV)前方散乱光電子回折のエネルギー走査が,薄いエピタキシャル膜または二次元材料の積層に関する貴重な構造的および化学的情報を提供できることを,多重散乱シミュレーションの助けを借りて実証した。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  光電子放出 ,  *干渉 ,  *散乱 ,  シミュレーション ,  多重散乱 ,  化学情報 ,  運動エネルギー ,  後方散乱 ,  *エネルギー依存性 ,  *前方散乱 ,  指紋 ,  原子散乱因子 ,  *光電子回折
準シソーラス用語： 高エネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： X線光電子回折 ,  前方散乱 ,  エネルギー走査 ,  高次干渉

分類 (1件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光電子回折 ,  前方散乱 ,  干渉 ,  現象 ,  エネルギー依存性