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J-GLOBAL ID：202202286157337230   整理番号：22A0322905

ペタワットレベル光パラメトリックチャープパルス増幅システムにおける分散制御のための二重格子オフナーストレッチャの使用【JST・京大機械翻訳】

Use of double-grating Offner stretcher for dispersion control in petawatt level optical parametric chirped pulse amplification systems

著者 (16件)： Wu Fenxiang (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Liu Xingyan (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Wang Xinliang (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Hu Jiabing (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Lu Xiaoming (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Li Yanyan (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Peng Yujie (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Liu Yanqi (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Chen Junchi (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Long Yingbin (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Li Wenkai (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Zhang Zongxin (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Xu Yi (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Wang Cheng (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Leng Yuxin (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Li Ruxin (State Key Laboratory of High Field Laser Physics, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China)
資料名： Optics & Laser Technology  (Optics & Laser Technology)
巻： 148  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0245B  ISSN： 0030-3992  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 収差フリー特性は,共役Trecy圧縮機による良好なビーム品質と完全分散整合の利点を有する二重格子Ofnerストレッチャを付与し,したがって,低材料分散を特徴とする光パラメトリックチャープパルス増幅(OPCPA)システムのための理想的パルスストレッチャを,このようにする。二重格子Offnerストレッチャの使用によるOPCPAシステムにおける分散制御の実現可能性を数値的および実験的に実証した。数値結果から,Fourier変換制限(FTL)パルスは,二重格子Offner伸縮器ベースペタワット(PW)レベル広帯域OPCPAシステムにおいて実現できることを示した。さらに,原理証明実験において,210nmスペクトル帯域幅と3nsチャープパルス持続時間を持つ増幅パルスを,Trecy圧縮機と二重格子Ofnerストレッチャを協調して,15.4fsのFTLパルス幅近傍に圧縮した。著者らが知る限りでは,そのような広帯域スペクトルおよびそのような大きなチャープパルス持続時間を有するレーザパルスの近FTL圧縮を同時に実現し,一方,余分な分散補償法を用いることは初めてである。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： Fourier変換 ,  収差 ,  圧縮機 ,  共役 ,  スペクトル ,  レーザパルス ,  *パルス ,  帯域幅 ,  パルス幅 ,  分散制御 ,  広帯域 ,  *光増幅 ,  *チャープ
準シソーラス用語： ビーム品質 ,  分散補償 ,  *チャープパルス増幅 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ペタワット ,  OPCPAシステム ,  分散制御 ,  二重格子オフナーストレッチャ

分類 (2件)： 非線形光学  (BD05000T) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (3件)： 増幅 ,  分散制御 ,  格子