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J-GLOBAL ID：202202287105074192   整理番号：22A0551780

六方晶穴あきラメラナノ構造によりトップした非対称溶媒アニールトリブロック共重合体厚膜【JST・京大機械翻訳】

Asymmetric Solvent-Annealed Triblock Terpolymer Thick Films Topped by a Hexagonal Perforated Lamellar Nanostructure

著者 (8件)： Aissou Karim (Institut Europeen des Membranes, IEM, UMR 5635, ENSCM, CNRS, Universite de, Montpellier, Montpellier, 34090, France) ,  Bouzit Hana (Institut Europeen des Membranes, IEM, UMR 5635, ENSCM, CNRS, Universite de, Montpellier, Montpellier, 34090, France) ,  Krusch Felix (Institut Europeen des Membranes, IEM, UMR 5635, ENSCM, CNRS, Universite de, Montpellier, Montpellier, 34090, France) ,  Mericq Jean Pierre (Institut Europeen des Membranes, IEM, UMR 5635, ENSCM, CNRS, Universite de, Montpellier, Montpellier, 34090, France) ,  Cot Didier (Institut Europeen des Membranes, IEM, UMR 5635, ENSCM, CNRS, Universite de, Montpellier, Montpellier, 34090, France) ,  Masquelez Nathalie (Institut Europeen des Membranes, IEM, UMR 5635, ENSCM, CNRS, Universite de, Montpellier, Montpellier, 34090, France) ,  Roualdes Stephanie (Institut Europeen des Membranes, IEM, UMR 5635, ENSCM, CNRS, Universite de, Montpellier, Montpellier, 34090, France) ,  Quemener Damien (Institut Europeen des Membranes, IEM, UMR 5635, ENSCM, CNRS, Universite de, Montpellier, Montpellier, 34090, France)
資料名： Macromolecular Rapid Communications  (Macromolecular Rapid Communications)
巻： 43  号： 2  ページ： e2100585  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0314B  ISSN： 1022-1336  CODEN： MRCOE3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非溶媒誘起相分離(NIPS)プロセスを溶媒蒸気アニーリング(SVA)処理と組み合わせることにより,20wt%の短いPS単独重合体(hPS,10.5kg/mol)と混合した非対称及びナノ構造ポリスチレン-ブロック-ポリ(2-ビニルピリジン)-ブロック-ポリ(エチレンオキシド(PS-b-P2VP-b-PEO又はSVEO,S:V:EO≒56:34:10,79.5kg/mol)厚膜を達成した。ここで,NIPSステップは,十分に秩序化していないナノ細孔を示す高密度薄層によってトップされた高度に透過性のスポンジ状下部構造の形成を可能にし,一方,その後のSVA処理は,材料トップ表面を,よく秩序化した六角形多孔ラメラ(HPL)の多孔質単層に再構成することを可能にする。NIPS-SVAにより生成されたこの最適化膜構造は,860Lh-1m-2bar-1の水透過性を示し,これは,低秩序化ナノ細孔を有するPS-b-P_2VP-b-PEO/hPS材料に,NIPSにより測定されたフラックスより約2倍高かった。ポストSVA処理は,HPL相から完全に構成されるモノリスがクロロホルム流への曝露時間を増加させることによって生成されるので,混合材料内に形成されるナノ構造の厚さを調整する強力なツールとして明らかにされた。そのようなPS-b-P2VP-b-PEO/hPSモノリスの水フラックスは,それらの非対称膜同族体よりも1桁低いことが分かった。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最適化 ,  *焼なまし ,  薄膜 ,  *溶媒 ,  相分離 ,  *非対称性 ,  膜構造 ,  *六方晶系 ,  多孔質体 ,  細孔 ,  *厚膜 ,  *ナノ構造 ,  自己集合 ,  脂肪族塩素化合物 ,  トリハロメタン
準シソーラス用語： ナノ細孔 ,  モノリス ,  非溶媒 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 非対称厚膜 ,  ブロック共重合体 ,  相反転過程 ,  自己集合 ,  溶媒蒸気アニーリング

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (1件)： クロロホルム

タイトルに関連する用語 (10件)： 六方晶 ,  穴あき ,  ラメラ ,  ナノ構造 ,  トップ ,  非対称 ,  溶媒 ,  アニール ,  トリブロック共重合体 ,  厚膜