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J-GLOBAL ID：202202288972891122   整理番号：22A0981447

エレクトロスプレイ制御イオンビーム蒸着によるAg(111)上の分子グラフェンナノリボンの堆積:自己集合と表面変換【JST・京大機械翻訳】

Depositing Molecular Graphene Nanoribbons on Ag(111) by Electrospray Controlled Ion Beam Deposition: Self-Assembly and On-Surface Transformations

著者 (14件)： Ran Wei (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany) ,  Walz Andreas (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany) ,  Stoiber Karolina (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany) ,  Knecht Peter (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany) ,  Xu Hongxiang (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany) ,  Papageorgiou Anthoula C. (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany) ,  Huettig Annette (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany) ,  Cortizo-Lacalle Diego (POLYMAT, University of the Basque Country UPV/EHU, Avenida de Tolosa 72, 20018, Donostia-San Sebastian, Spain) ,  Mora-Fuentes Juan P. (POLYMAT, University of the Basque Country UPV/EHU, Avenida de Tolosa 72, 20018, Donostia-San Sebastian, Spain) ,  Mateo-Alonso Aurelio (POLYMAT, University of the Basque Country UPV/EHU, Avenida de Tolosa 72, 20018, Donostia-San Sebastian, Spain) ,  Mateo-Alonso Aurelio (Ikerbasque, Basque Foundation for Science, Bilbao, Spain) ,  Schlichting Hartmut (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany) ,  Reichert Joachim (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany) ,  Barth Johannes V. (Physics Department E20, Technical University of Munich, James Franck Strasse 1, 85748, Garching, Germany)
資料名： Angewandte Chemie  (Angewandte Chemie)
巻： 134  号： 14  ページ： e202111816  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0396A  ISSN： 0044-8249  CODEN： ANCEAD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低次元炭素ナノ構造の化学処理は,将来のデバイスにおけるそれらの統合にとって重要である。ここでは,Nドープ分子グラフェンナノリボン(GNRs)の多段階溶液合成と,表面および走査トンネル顕微鏡による実空間可視化による,質量選択超真空エレクトロスプレー制御イオンビーム蒸着との組み合わせによる原子的に正確な工学における新しい方法を適用した。この方法によって,平面状Ag(111)表面上の2.9nm長の単一,さもなければ,非昇華可能なGNRの制御可能な量だけが得られることを実証した。この方法論は,表面合成プロトコルを採用し,基質の反応性を利用して,更なる処理を可能にする。多重化学変換の後,GNRsは,拡張,金属-有機配位ポリマーを形成するための反応性構築ブロックを提供する。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 昇華 ,  真空 ,  処理 ,  炭素 ,  反応性 ,  基質 ,  可視化 ,  ドーピング ,  多重化 ,  *イオンビーム蒸着 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  ナノ構造 ,  *自己集合
準シソーラス用語： 化学処理 ,  *グラフェンナノリボン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： エレクトロスプレー堆積 ,  グラフェンナノリボン ,  走査トンネル顕微鏡 ,  超高真空 ,  表面合成

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (7件)： エレクトロスプレイ ,  イオンビーム蒸着 ,  Ag ,  分子 ,  グラフェンナノリボン ,  堆積 ,  自己集合