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J-GLOBAL ID：202202289627904699   整理番号：22A0553491

CoFeB-/酸化物系系における界面Dzyaloshinskii Overya相互作用,垂直磁気異方性,および減衰【JST・京大機械翻訳】

Interfacial Dzyaloshinskii-Moriya Interaction, Perpendicular Magnetic Anisotropy, and Damping in CoFeB-/Oxide-Based Systems

著者 (7件)： Mokhtari I. Benguettat-El (LSPM, CNRS, UPR 3407, Universite ́ Sorbonne Paris Nord, Villetaneuse, France) ,  Roussigne Y. (LSPM, CNRS, UPR 3407, Universite ́ Sorbonne Paris Nord, Villetaneuse, France) ,  Cherif S. M. (LSPM, CNRS, UPR 3407, Universite ́ Sorbonne Paris Nord, Villetaneuse, France) ,  Auffret S. (Universite ́ Grenoble Alpes, CEA, CNRS, Grenoble INP, IRIG, SPINTEC, Grenoble, France) ,  Baraduc C. (Universite ́ Grenoble Alpes, CEA, CNRS, Grenoble INP, IRIG, SPINTEC, Grenoble, France) ,  Bea H. (Universite ́ Grenoble Alpes, CEA, CNRS, Grenoble INP, IRIG, SPINTEC, Grenoble, France) ,  Belmeguenai M. (LSPM, CNRS, UPR 3407, Universite ́ Sorbonne Paris Nord, Villetaneuse, France)
資料名： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Transactions on Magnetics)
巻： 58  号： 2  ページ： ROMBUNNO.4301205.1-5  発行年： 2022年 
JST資料番号： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 振動試料磁気測定,マイクロストリップ強磁性共鳴,およびBrillouin光散乱法により,成長および225°CアニールCoFeB/PtO_x,CoFeB/TaO_x,およびTa/CoFeB/TaO_x系について,応用にとって最も重要なスピンπ軌道結合関連現象である,垂直磁気異方性(PMA),スピンポンピング誘起減衰,および界面Dzyaloshinskii Moriya相互作用(iDMI)を実験的に調べた。Co_8Fe_72B_20(CoFeB)の厚さを0.8≦10nmの範囲で変えることにより,異方性と減衰に及ぼすTaバッファ層の影響を最初に研究し,そこでは,大きな表面磁気異方性(K_s=2.1±0.16erg/cm2)を,基板によって誘起されるそれらのより高い粗さのため,非緩衝CoFeB/TaO_x(0.8nm)系で測定した。K_sは2nm以下のCoFeB膜厚で著しく低下し,自発的垂直磁化はTaバッファ層無しでは不可能であった。PMA,iDMI,および堆積ままおよび225°CアニールしたCoFeB(1.5nm)/PtO_x系の減衰を,0.7≦Δ1.6nmの範囲のPtO_x厚さの関数として測定した。PtO_x厚さに対する強い依存性は,PtO_x厚さが増加するにつれて,磁気デッド層の減少に起因した。減衰対PMA定数の線形依存性を得て,スピン-軌道結合とのそれらの関係を確認した。さらに,アニーリングは,おそらくCoFeB結晶構造と界面の増強により,PMAと有効混合コンダクタンスを増加させた。Copyright 2022 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *界面 ,  強磁性共鳴 ,  結晶構造 ,  *磁気異方性 ,  磁気測定 ,  焼なまし ,  *相互作用 ,  タンタル ,  *酸化物 ,  マイクロストリップ線路 ,  *磁気 ,  *垂直磁気異方性 ,  垂直磁化 ,  バッファ層 ,  コンダクタンス

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸化物 ,  界面 ,  相互作用 ,  垂直磁気異方性 ,  減衰