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J-GLOBAL ID:202202289690464082   整理番号:22A1161187

優れた電子,光学,および機械特性を有する低温で調製した埋め込み酸化Ag-Pd-Cu極薄金属合金膜【JST・京大機械翻訳】

Embedded Oxidized Ag-Pd-Cu Ultrathin Metal Alloy Film Prepared at Low Temperature with Excellent Electronic, Optical, and Mechanical Properties
著者 (8件):
資料名:
巻: 14  号: 13  ページ: 15756-15764  発行年: 2022年 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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最も透明な導電性材料はSn:In_2O_3(ITO)に基づく。フレキシブル基板上に適用した場合,ITOは酸化物-金属酸化物(OMO)構造,典型的にはITO/Ag/ITOで調製でき,そこでは埋め込まれた金属層の延性が機械的脆性を低減し,OMO多層の電気伝導率を改善することを意図した。さらに,Ag層の厚さの下限はパーコレーション閾値によって制限され,凝集を避け,伝導率と構造安定性を確保するためにAg層を~10nmより厚くする。しかし,10nm以下の厚さの金属層は,より良い光学特性を有するOMO被覆を得るために望ましい。Ag-Pd-Cu(APC)合金でAgを置換すると,金属層の凝集はある程度抑制されることが知られている。APC系OMO膜は優れた光学的および電気的性質を示すが,厚さ10nm以下の連続APC膜は達成できない。本研究では,APCの制御された酸化がITO被覆PET基板上に滑らかで超薄なAPC:O連続被覆(厚さ~5nm)をもたらすことを実証した。中程度の酸化は,Ag凝集を抑制する表面PdO_x生成をもたらし,一方,優れた伝導率を維持した。他方,APCの広範な酸化は,膜の伝導率を劣化させる広範なPd酸化物核形成をもたらす。ITO/APC:O/ITO膜は,低い抵抗率を示し,高いHall移動度,高い湿度/温度環境における良好な安定性,可視および赤外領域における優れた透過率,および優れた機械的曲げ特性に起因し,従って,高分子基板上に優れた透明導電性被覆を作製する新しい機会を提供した。Copyright 2022 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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太陽電池  ,  その他の電気・電子部品 

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