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J-GLOBAL ID：202202290002420284   整理番号：22A0902894

二重パラメータ六角形プリズムに基づくマルチビーム干渉法を用いた傾斜フォトニック構造の作製【JST・京大機械翻訳】

Preparation of Graded Photonic Structure by using multi-beam interfering method based on dual-parameter hexagonal prism

著者 (5件)： Chen DeLi (Henan Key Laboratory of Laser and Opto-electric Information Technology, School of Information Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou, 450001, People’s Republic of China) ,  Wang Zhan (Henan Key Laboratory of Laser and Opto-electric Information Technology, School of Information Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou, 450001, People’s Republic of China) ,  Zeng Yong (Henan Key Laboratory of Laser and Opto-electric Information Technology, School of Information Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou, 450001, People’s Republic of China) ,  Zhang XiaoRong (Henan Key Laboratory of Laser and Opto-electric Information Technology, School of Information Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou, 450001, People’s Republic of China) ,  Sun XiaoHong (Henan Key Laboratory of Laser and Opto-electric Information Technology, School of Information Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou, 450001, People’s Republic of China)
資料名： Physics Letters. A  (Physics Letters. A)
巻： 432  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0600B  ISSN： 0375-9601  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,二重円錐干渉システムを,著者らのグループによって独立に設計した二重パラメータトップカット六角形プリズム(TCHP)を用いて構築した。システムを使用することによって,SU-8フォトレジスト材料の大面積を,勾配フォトニック結晶(GPC)超格子構造とアレイを調製するために,単一ホログラフィック露光にさらした。試料のAFM測定を通して,サブミクロンサイズの小さな格子を有する二重周期六方晶GPC構造を観察した。CCD顕微鏡カメラシステムモニタリングと理論的設計によって得る構造と比較して,実験は,比較的良い一貫性を達成した。この方法は,単一曝露を通して大面積でGPC構造とアレイを調製するのが簡単で容易であり,GPCの迅速調製のための新しい方法を提供する。Copyright 2022 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *干渉 ,  超格子 ,  干渉測定 ,  *プリズム ,  フォトレジスト ,  露光 ,  ホログラフィー ,  六方晶系 ,  リソグラフィー ,  フォトニック結晶
準シソーラス用語： SU-8 ,  原子間力顕微鏡法 ,  大面積 ,  *フォトニック構造 ,  サブミクロンサイズ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： フォトニック結晶 ,  二重パラメータ ,  マルチビーム ,  リソグラフィー

分類 (3件)： ホログラフィーの応用  (BD03074U) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： パラメータ ,  角形 ,  プリズム ,  マルチビーム ,  干渉法 ,  フォトニック構造 ,  作製