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J-GLOBAL ID：202202291557037238   整理番号：22A0463554

シロキサン足場のテーラーメイド修飾のための分子シザー【JST・京大機械翻訳】

Molecular Scissors for Tailor-Made Modification of Siloxane Scaffolds

著者 (3件)： Gotz Tobias (Institut fuer Anorganische Chemie, Fakultaet fuer Chemie und Pharmazie, Universitaet Regensburg, Universitaetsstrasse 31, D-93053, Regensburg, Germany) ,  Falk Alexander (Institut fuer Anorganische Chemie, Fakultaet fuer Chemie und Pharmazie, Universitaet Regensburg, Universitaetsstrasse 31, D-93053, Regensburg, Germany) ,  Bauer Jonathan O. (Institut fuer Anorganische Chemie, Fakultaet fuer Chemie und Pharmazie, Universitaet Regensburg, Universitaetsstrasse 31, D-93053, Regensburg, Germany)
資料名： Chemistry - European Journal  (Chemistry - European Journal)
巻： 28  号： 2  ページ： e202103531  発行年： 2022年 
JST資料番号： W0744A  ISSN： 0947-6539  CODEN： CEUJED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 機能性オリゴシロキサンの制御設計は,現在の研究における重要な話題である。1,2-ジアミノベンゼン誘導体で置換されたシロキサンを用いた連続Si-O-Si結合開裂/形成を,分子スキャッサーとして作用する。この方法は,環状ジアミノシランまたは-シロキサン中間体を形成するシロキサン足場の特定の位置で切断することを可能にし,次に新しい機能性サイロキシユニットを導入する。この手順をクロロオリゴシロキサンの直接一段階開裂に拡張した。シロキサン生成と開裂の両方が,良好から優れた収率,高い位置選択性,およびシロキシ単位の大きな可変性で進行した。選択性の制御はアミノ置換基の選択によって達成される。機構への洞察は,低温NMR研究とリチウム化中間体の分離によって提供された。Copyright 2022 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： NMR【磁気共鳴】 ,  低温 ,  ケイ素 ,  アミノ基 ,  *シロキサン ,  中間体 ,  芳香族アミン ,  ジアミン ,  第一アミン
準シソーラス用語： 機能性 ,  環状 ,  レギオ選択性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 分子切断器 ,  Si-O-Si開裂 ,  シリコン ,  シロキサン ,  合成法

分類 (1件)： 有機けい素化合物  (CF08030C)

物質索引 (1件)： o-フェニレンジアミン

タイトルに関連する用語 (4件)： シロキサン ,  足場 ,  修飾 ,  分子